WORKING DEVICE

• Main Authors: SUZUKI Eisuke, SUZUKI Daisuke, SUZUKI Tatsutoshi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 14.11.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

[Problem] To provide a catalyst-referred planarization device which does not require a heater for heating a working fluid. [Solution] A catalyst-referred planarization device that, under the presence of a working fluid L which promotes a catalytic reaction, brings the surface of a wafer W into contact with or close to a surface of a pad 9 that has a catalyst layer on the surface and causes the wafer W and the pad 9 to move relatively to each other by only an amount by which the surface of the wafer W can be planarized by the catalytic reaction. An ultraviolet light emitting LED 8 that outputs ultraviolet radiation toward the surface of the wafer W is provided inside a retainer 7, and the working fluid L is heated by the heat generated from the LED 8 being radiated into the working fluid L, while the LED 8 is cooled simultaneously. Le problème décrit par la présente invention est de fournir un dispositif de planarisation désigné par catalyseur qui ne nécessite pas de dispositif de chauffage pour chauffer un fluide de travail. La solution selon l'invention concerne un dispositif de planarisation de catalyseur qui, en présence d'un fluide de travail L qui favorise une réaction catalytique, amène la surface d'une tranche W en contact avec ou à proximité d'une surface d'un tampon 9 qui a une couche de catalyseur sur la surface et amène la tranche W et le tampon 9 à se déplacer l'un par rapport à l'autre uniquement d'une valeur par laquelle la surface de la tranche W peut être planarisée par la réaction catalytique. Une LED électroluminescente ultraviolette 8 qui émet un rayonnement ultraviolet vers la surface de la tranche W est disposée à l'intérieur d'un élément de retenue 7, et le fluide de travail L est chauffé par la chaleur générée à partir de la LED 8 étant rayonnée dans le fluide de travail L, tandis que la LED 8 est refroidie simultanément. 【課題】加工液を加温するヒータの設置が不要な触媒基準平坦加工装置を提供する 【解決手段】　ウェハＷと表面に触媒層を有するパッド９につき、触媒反応を促進する加工液Ｌの存在下で、ウェハＷとパッド９の各表面を互いに当接ないし近接させて、これらを触媒反応によるウェハＷの表面の平坦化が可能な量だけ相対移動させるようにした触媒基準平坦加工装置において、ウェハＷの表面に向けて紫外線を出力する紫外線発光用ＬＥＤ８を保持体７内に設け、当該ＬＥＤ８から発せられる熱が加工液Ｌに放散されて当該加工液Ｌが加温されると同時にＬＥＤ８が冷却されるように構成する。