RF GROUNDING CONFIGURATION FOR PEDESTALS

Embodiments of the present disclosure generally relate to substrate supports for process chambers and RF grounding configurations for use therewith. Methods of grounding RF current are also described. A chamber body at least partially defines a process volume therein. A first electrode is disposed i...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors HAMMOND, IV, KHAJA, Abdul Aziz, YE, Zheng John, THOKACHICHU, Satya, PRABHAKAR, Vinay K, KALSEKAR, Viren
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 07.11.2019
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:Embodiments of the present disclosure generally relate to substrate supports for process chambers and RF grounding configurations for use therewith. Methods of grounding RF current are also described. A chamber body at least partially defines a process volume therein. A first electrode is disposed in the process volume. A pedestal is disposed opposite the first electrode. A second electrode is disposed in the pedestal. An RF filter is coupled to the second electrode through a conductive rod. The RF filter includes a first capacitor coupled to the conductive rod and to ground. The RF filter also includes a first inductor coupled to a feedthrough box. The feedthrough box includes a second capacitor and a second inductor coupled in series. A direct current (DC) power supply for the second electrode is coupled between the second capacitor and the second inductor. Des modes de réalisation de la présente invention concernent généralement des supports de substrat destinés à des chambres de traitement et des configurations de mise à la terre RF destinées à être utilisées avec ces derniers. Des procédés de mise à la terre d'un courant RF sont en outre décrits. Un corps de chambre délimite au moins partiellement un volume de traitement à l'intérieur de ce dernier. Une première électrode est disposée dans le volume de traitement. Un socle est disposé en regard de la première électrode. Une seconde électrode est disposée dans le socle. Un filtre RF est couplé à la seconde électrode par l'intermédiaire d'une tige conductrice. Le filtre RF comprend un premier condensateur couplé à la tige conductrice et à la terre. Le filtre RF comprend également un premier inducteur couplé à une boîte de traversée. La boîte de traversée comprend un second condensateur et un second inducteur couplés en série. Une alimentation électrique en courant continu (CC) destinée à la seconde électrode est couplée entre le second condensateur et le second inducteur.
Bibliography:Application Number: WO2019US28665