PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR EUV LIGHT, PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

• Main Authors: OKA Hironori, SHIRAKAWA Michihiro, FURUTANI Hajime
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 24.10.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Provided are: a photosensitive composition for EUV light having a good Z-factor and with which it is possible to form a pattern in which bridge defects are inhibited; a pattern formation method; and a method for manufacturing an electronic device. The photosensitive composition for EUV light includes a prescribed resin and a photoacid generator, or a prescribed resin having a repeating unit having a photoacid generation group, and the photosensitive composition satisfies conditions 1-3. Condition 1: The A value derived in formula (1) is 0.14 or more. Formula (1): A = ([H] × 0.04 + [C] × 1.0 + [N] × 2.1 + [O] × 3.6 + [F] × 5.6 + [S] × 1.5 + [I] × 39.5)/([H] × 1 + [C] × 12 + [N] × 14 + [O] × 16 + [F] × 19 + [S] × 32 + [I] × 127). Condition 2: The solid component concentration in the photosensitive composition for EUV light is 5.0 mass% or less. Condition 3: The content of the photoacid generator is 5-50 mass% of the total solid components in the photosensitive composition for EUV light. L'invention concerne : une composition photosensible pour lumière EUV, cette composition ayant un bon facteur Z et permettant de former un motif dans lequel des défauts de pont sont inhibés; un procédé de formation de motif; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique. La composition photosensible pour lumière EUV comprend une résine prescrite et un générateur de photoacide, ou une résine prescrite ayant un motif récurrent doté d'un groupe générateur de photoacide, et la composition photosensible satisfait les conditions 1-3. Condition 1 : la valeur A dérivée par la formule (1) est supérieure ou égale à 0,14. Formule (1) : A = ([H] × 0,04 + [C] × 1,0 + [N] × 2,1 + [O] × 3,6 + [F] × 5,6 + [S] × 1,5 + [I] × 39,5)/[H] × 1 + [C] × 12 + [N] × 14 + [O] × 16 + [F] × 19 + [S] × 32 + [I] × 127). Condition 2 : la teneur en matières solides présentes dans la composition photosensible pour lumière EUV est de 5,0 % en masse ou moins. Condition 3 : la teneur du générateur de photoacide est de 5 à 50 % en masse des composants solides totaux présents dans la composition photosensible pour lumière EUV. Ｚ－ｆａｃｔｏｒが良好で、かつ、ブリッジ欠陥が抑制されたパターンを形成可能なＥＵＶ光用感光性組成物、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。ＥＵＶ光用感光性組成物は、所定の樹脂、及び、光酸発生剤を含むか、または、光酸発生基を有する繰り返し単位を有する、所定の樹脂を含み、要件１～要件３を満たす。 要件１：式（１）で求められるＡ値が０．１４以上である。 式（１）：Ａ＝（［Ｈ］×０．０４＋［Ｃ］×１．０＋［Ｎ］×２．１＋［Ｏ］×３．６＋［Ｆ］×５．６＋［Ｓ］×１．５＋［Ｉ］×３９．５）／（［Ｈ］×１＋［Ｃ］×１２＋［Ｎ］×１４＋［Ｏ］×１６＋［Ｆ］×１９＋［Ｓ］×３２＋［Ｉ］×１２７） 要件２：ＥＵＶ光用感光性組成物中の固形分濃度が５．０質量％以下である。 要件３：光酸発生剤の含有量が、ＥＵＶ光用感光性組成物中の全固形分に対して、５～５０質量％である。