TA-NB ALLOY POWDER AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND ANODE ELEMENT FOR SOLID ELECTROLYTIC CAPACITOR
The purpose of the preset invention is to provide: a Ta-Nb alloy powder for a solid electrolytic capacitor that has a high capacity and shows a small leak current even after undergoing a reflow processing; a method for producing the Ta-Nb alloy powder; and an anode element using the alloy powder. A...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
17.10.2019
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Summary: | The purpose of the preset invention is to provide: a Ta-Nb alloy powder for a solid electrolytic capacitor that has a high capacity and shows a small leak current even after undergoing a reflow processing; a method for producing the Ta-Nb alloy powder; and an anode element using the alloy powder. A Ta-Nb alloy powder produced by subjecting a Ta-Nb alloy powder, which is produced by a thermal CVD method, contains Nb in an amount of 10 to 80 mass% and has a primary particle diameter of 30 to 200 nm, to an oxidation treatment so as to concentrate the O content relative to the total amount of the particles in a zone surrounded by a point (Nb: 10%, O: 4.5%), a point (Nb: 20%, O: 5.5%), a point (Nb: 40%, O: 7.3%), a point (Nb: 60%, O: 7.5%), a point (Nb: 80%, O: 7.5%), a point (Nb: 80%, O: 6.5%), a point (Nb: 60%, O: 6.0%), a point (Nb: 40%, O: 4.8%), a point (Nb: 20%, O: 3.5%) and a point (Nb: 10%, O: 3.0%), all in mass%, in the relationship with the Nb content. In the Ta-Nb alloy powder, an oxide coating film layer composed of only an amorphous material is provided on the surface of each of the primary particles.
Le but de la présente invention est de fournir : une poudre d'alliage Ta-Nb destinée à un condensateur électrolytique solide qui possède une capacité élevée et qui démontre un faible courant de fuite même après avoir subi un traitement de refusion ; un procédé destiné à la production de la poudre d'alliage Ta-Nb ; et un élément d'anode utilisant la poudre d'alliage. La poudre d'alliage Ta-Nb est produite en soumettant une poudre d'alliage Ta-Nb, qui est produite par un procédé CVD thermique, qui contient du Nb en une quantité de 10 à 80 % en masse et qui possède un diamètre de particule primaire de 30 à 200 nm, à un traitement d'oxydation, de façon à concentrer la teneur en O par rapport à la quantité totale des particules dans une zone entourée par un point (Nb : 10 %, O : 4,5 %), un point (Nb : 20 %, O : 5,5 %), un point (Nb : 40 %, O : 7,3 %), un point (Nb : 60 %, O : 7,5 %), un point (Nb : 80 %, O : 7,5 %), un point (Nb : 80 %, O : 6,5 %), un point (Nb : 60 %, O : 6,0 %), un point (Nb : 40 %, O : 4,8 %), un point (Nb : 20 %, O : 3,5 %) et un point (Nb : 10 %, O : 3,0 %), tous en % en masse, dans la relation avec la teneur en Nb. Dans la poudre d'alliage Ta-Nb, une couche de film de revêtement d'oxyde composée uniquement d'un matériau amorphe est disposée sur la surface de chacune des particules primaires.
リフロー処理後でも、高容量で漏れ電流が小さい固体電解コンデンサ用のTa-Nb合金粉末とその製造方法と、その合金粉末を用いた陽極素子を提供することを目的とし、熱CVD法で得た、Nbが10~80mass%で、一次粒子径が30~200nmのTa-Nb合金粉末に酸化処理を施して、粒子全体に対するO含有量を、Nbの含有量との関係において、maass%で(Nb:10%、O:4.5%)、(Nb:20%、O:5.5%)、(Nb:40%、O:7.3%)、(Nb:60%、O:7.5%)、(Nb:80%、O:7.5%)、(Nb:80%、O:6.5%)、(Nb:60%、O:6.0%)、(Nb:40%、O:4.8%)、(Nb:20%、O:3.5%)および(Nb:10%、O:3.0%)の点で囲まれる範囲内に富化し、一次粒子の表面に非晶質のみからなる酸化皮膜層を有するTa-Nb合金粉末とする。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2018JP15321 |