HETEROGENEOUS STRUCTURE ON AN INTEGRATED PHOTONICS PLATFORM

There is set forth herein an integrated photonics structure having a waveguide disposed within a dielectric stack of the integrated photonics structure, wherein the integrated photonics structure further includes a field generating electrically conductive structure disposed within the dielectric sta...

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Main Authors LA TULIPE, Douglas, MORTON, Paul, COOLBAUGH, Douglas, USECHAK, Nicholas
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 10.10.2019
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Summary:There is set forth herein an integrated photonics structure having a waveguide disposed within a dielectric stack of the integrated photonics structure, wherein the integrated photonics structure further includes a field generating electrically conductive structure disposed within the dielectric stack; and a heterogenous structure attached to the integrated photonics structure, the heterogenous structure having field sensitive material that is sensitive to a field generated by the field generating electrically conductive structure. There is set forth herein a method including fabricating an integrated photonics structure, wherein the fabricating an integrated photonics structure includes fabricating a waveguide within a dielectric stack, wherein the fabricating an integrated photonics structure further includes fabricating a field generating electrically conductive structure within the dielectric stack; and attaching a heterogenous structure to the integrated photonics structure, the heterogenous structure having field sensitive material that is sensitive to a field generated by the field generating electrically conductive structure. L'invention concerne une structure photonique intégrée comportant un guide d'ondes disposé à l'intérieur d'un empilement diélectrique de la structure photonique intégrée, la structure photonique intégrée comprenant en outre une structure électroconductrice de production de champ, disposée à l'intérieur de l'empilement diélectrique; et une structure hétérogène, fixée à la structure photonique intégrée, la structure hétérogène contenant un matériau sensible au champ, qui est sensible à un champ généré par la structure électroconductrice de production de champ. L'invention concerne un procédé comprenant la fabrication d'une structure photonique intégrée, la fabrication d'une structure photonique intégrée comprenant la fabrication d'un guide d'ondes à l'intérieur d'un empilement diélectrique, la fabrication d'une structure photonique intégrée comprenant en outre la fabrication d'une structure électroconductrice de production de champ à l'intérieur de l'empilement diélectrique; et la fixation d'une structure hétérogène à la structure photonique intégrée, la structure hétérogène contenant un matériau sensible au champ qui est sensible à un champ généré par la structure électroconductrice de production de champ.
Bibliography:Application Number: WO2019US25607