CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE

• Main Authors: NOMAGUCHI Tsunenori, NISHINAKA Kenichi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.10.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

The invention addresses the problem that, if a charged-particle beam aperture that is shaped as a ring is used, the charged-particle beam portion directly on the optical axis, wherein the electric current density is highest in the charged-particle beam, is blocked, and thus, disposing the charged-particle beam aperture at an optimal placement position is difficult. This charged-particle beam device comprises a charged-particle beam source (101) generating the charged-particle beam, the charged-particle beam aperture (120), a charged-particle beam aperture power source (108) applying a voltage to the charged-particle beam aperture, an objective lens (105) focusing the charged-particle beam onto a sample, a detector (118) detecting a secondary charged particle which has been released due to the sample being irradiated by the charged-particle beam, and a computer (170) forming a charged-particle beam image on the basis of the secondary charged particle detected by the detector. The position of the charged-particle beam aperture is set in such a manner that, in a state wherein an alternating current voltage is applied to the charged-particle beam aperture by the charged-particle beam aperture power source, changes occur in concentric circular shapes synchronized with the alternating current voltage, without displacement of the charged-particle beam image. L'invention aborde le problème selon lequel, si une ouverture de faisceau de particules chargées, qui se présente sous la forme d'un anneau, est utilisée, la partie faisceau de particules chargées qui se trouve directement sur l'axe optique est bloquée, la densité de courant électrique étant la plus élevée dans le faisceau de particules chargées, et ainsi, la disposition de l'ouverture de faisceau de particules chargées en une position de placement optimale est difficile. La solution selon l'invention porte sur un dispositif à faisceau de particules chargées comprenant une source de faisceau de particules chargées (101) produisant le faisceau de particules chargées, l'ouverture de faisceau de particules chargées (120), une source d'énergie d'ouverture de faisceau de particules chargées (108) appliquant une tension à l'ouverture de faisceau de particules chargées, un objectif (105) focalisant le faisceau de particules chargées sur un échantillon, un détecteur (118) détectant une particule chargée secondaire ayant été libérée des suites de l'exposition de l'échantillon au faisceau de particules chargées, et un ordinateur (170) formant une image de faisceau de particules chargées sur la base de la particule chargée secondaire détectée par le détecteur. La position de l'ouverture de faisceau de particules chargées est réglée de sorte que, dans un état dans lequel une tension de courant alternatif est appliquée à l'ouverture de faisceau de particules chargées par la source d'énergie d'ouverture de faisceau de particules chargées, des changements se produisent dans des formes circulaires concentriques synchronisées avec la tension de courant alternatif, sans déplacement de l'image de faisceau de particules chargées. 円環形状を有する荷電粒子線絞りを用いる場合、荷電粒子線において最も電流密度の高い光軸直上の荷電粒子線は遮られるため、荷電粒子線絞りを最適な搭載位置に配置することが難しい。荷電粒子線装置は、荷電粒子線を発生させる荷電粒子線源（101）と、荷電粒子線絞り（120）と、荷電粒子線絞りに電圧を印加する荷電粒子線絞り電源（108）と、荷電粒子線を試料に集束する対物レンズ（105）と、荷電粒子線が試料に照射されることにより放出された二次荷電粒子を検出する検出器（118）と、検出器で検出された二次荷電粒子に基づき荷電粒子線像を形成するコンピュータ（170）とを有し、荷電粒子線絞りの位置を、荷電粒子線絞り電源により荷電粒子線絞りに交流電圧が印加された状態において、荷電粒子線像の移動がなく、交流電圧に同期して同心円状に変化するように設定する。