FRAME, EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE

• Main Author: NISHISAKA, Toshihiro
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 19.09.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES; HOLOGRAPHY; IRRADIATION DEVICES; MATERIALS THEREFOR; NUCLEAR ENGINEERING; NUCLEAR PHYSICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR; X-RAY TECHNIQUE

This frame (110) is provided with the following: A. a frame body (111) having a holding part (130) which detachably holds a target generation device (12) for outputting a target material into a chamber (10) as droplets, the target material being a target material for generating extreme ultraviolet light; B. a target position adjustment part which is provided in the holding part and adjusts the relative position of the target generation device with respect to the chamber; and C. a moving mechanism (42) that moves the frame body at least in the horizontal direction. The target position adjustment part is a stage (18) that moves the target generation device in two directions perpendicular to the injection axis of the droplets. La présente invention concerne un cadre (110) pourvu des éléments suivants : A. un corps de cadre (111) ayant une partie de maintien (130) qui maintient de manière amovible un dispositif de génération de cible (12) destiné à délivrer un matériau cible dans une chambre (10) sous forme de gouttelettes, le matériau cible étant un matériau cible permettant de générer une lumière ultraviolette extrême ; B. une partie de réglage de position cible qui est disposée dans la partie de maintien et règle la position relative du dispositif de génération de cible par rapport à la chambre ; et C. un mécanisme de déplacement (42) qui déplace le corps de cadre au moins dans la direction horizontale. La partie de réglage de position cible est un étage (18) qui déplace le dispositif de génération de cible dans deux directions perpendiculaires à l'axe d'injection des gouttelettes. 架台（１１０）であって、以下を備える：Ａ．極端紫外光生成用のターゲット物質をチャンバ（１０）内に液滴として出力するターゲット生成装置（１２）を着脱自在に保持する保持部（１３０）を有する架台本体（１１１）；Ｂ．保持部に設けられ、チャンバに対するターゲット生成装置の相対位置を調整するターゲット位置調整部；及び、Ｃ．架台本体を少なくとも水平方向に移動する移動機構（４２）。ターゲット位置調整部は、液滴の射出軸に直交する２方向に前記ターゲット生成装置を移動させるステージ（１８）である。