MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE AND EXPOSURE MASK

• Main Authors: ICHIKAWA, Shinji, JINMURA, Hiroharu, TANIYAMA, Hiroki, GUNJI, Ryosuke, OKABE, Tohru, INOUE, Akira, SAIDA, Shinsuke, NAKADA, Yoshihiro
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.08.2019
• Subjects: ADVERTISING; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; DISPLAYING; EDUCATION; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; LABELS OR NAME-PLATES; PHYSICS; SEALS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SIGNS

This manufacturing method for a display device includes an exposure step in which exposure is performed using an exposure mask that has a plurality of light-blocking portions that correspond to first electrodes, a translucent portion, and a plurality of semi-translucent portions that are formed in at least a portion of each area between the adjacent light-blocking portions. In the exposure step, the exposure intensity is set so that, when a photoresist, which has been deposited on a first electrode material film, is developed, only portions of the photoresist overlapping the light-blocking portions will remain, and portions overlapping the translucent portion and the semi-translucent portions are removed. La présente invention concerne un procédé de fabrication pour un dispositif d'affichage comprenant une étape d'exposition dans laquelle une exposition est effectuée à l'aide d'un masque d'exposition qui a une pluralité de parties de blocage de lumière qui correspondent à des premières électrodes, une partie translucide, et une pluralité de parties semi-translucides qui sont formées dans au moins une partie de chaque zone entre les parties de blocage de lumière adjacentes. Dans l'étape d'exposition, l'intensité d'exposition est réglée de telle sorte que, lorsqu'une photorésine, qui a été déposée sur un premier film de matériau d'électrode, est développée, seules des parties de la résine photosensible chevauchant les parties de blocage de lumière restent, et des parties chevauchant la partie translucide et les parties semi-translucides sont retirées. 表示デバイスの製造方法は、第１電極に対応する複数の遮光部と、透光部と、隣り合う上記遮光部間の少なくとも一部にそれぞれ形成された複数の半透光部とを有する露光マスクを用いて、第１電極材料膜上に成膜されたフォトレジストを、該フォトレジストを現像したときに、該フォトレジストにおける、上記遮光部に重畳する部分のみが残り、上記透光部と上記半透光部とに重畳する部分は除去される露光強度で露光する工程を含む。