THIN PLATE-SHAPED SUBSTRATE HOLDING DEVICE, AND HOLDING DEVICE EQUIPPED TRANSPORT ROBOT

• Main Authors: SATO Yasuhisa, SAKATA Katsunori
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 15.08.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES; CONVEYING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HAND TOOLS; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL; MANIPULATORS; PACKING; PERFORMING OPERATIONS; PNEUMATIC TUBE CONVEYORS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SHOP CONVEYOR SYSTEMS; STORING; TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING ORTIPPING; TRANSPORTING

Provided is a holding device 45 capable of holding securely and transporting a thin plate-shaped substrate for which surface processing has been completed without causing a natural oxide film to form on the surface to be processed thereof. This holding device 45 comprises a holding member 47 for holding the thin plate-shaped substrate, a purge plate 46 having formed therein a flow path 52 for the purpose of flowing therethrough an inert gas, and a piping member for connecting an inert gas supply source to the flow path 52. The purge plate 46 is equipped with discharge ports 51, which communicate with the flow path 52 and are provided on a surface facing the surface to be processed of the thin plate-shaped substrate held by the holding member 47, for the purpose of discharging the inert gas onto the processing surface of the thin plate-shaped substrate. In addition, the holding device 45 is equipped with a raising and lowering mechanism 48 that causes the holding member 47 and the purge plate 46 to be raised and lowered relative to each other. L'invention concerne un dispositif de maintien 45 capable de maintenir de manière sûre et de transporter un substrat en forme de plaque mince pour lequel un traitement de surface a été achevé sans amener un film d'oxyde naturel à se former sur la surface à traiter de celui-ci. Ce dispositif de maintien 45 comprend un élément de maintien 47 pour maintenir le substrat en forme de plaque mince, une plaque de purge 46 dans laquelle est formé un trajet d'écoulement 52 pour l'écoulement à travers celui-ci d'un gaz inerte, et un élément de conduit pour raccorder une source d'alimentation en gaz inerte au trajet d'écoulement 52. La plaque de purge 46 est équipée d'orifices de décharge 51, qui communiquent avec le trajet d'écoulement 52 et sont disposés sur une surface faisant face à la surface à traiter du substrat en forme de plaque mince maintenu par l'élément de maintien 47, dans le but de décharger le gaz inerte sur la surface de traitement du substrat en forme de plaque mince. De plus, le dispositif de maintien 45 est équipé d'un mécanisme d'élévation et d'abaissement 48 qui amène l'élément de maintien 47 et la plaque de purge 46 à être levés et abaissés l'un par rapport à l'autre. 表面処理が終了した薄板状基板の被処理面に自然酸化膜を生成させることなく確実に保持して搬送できる保持装置４５を提供する。保持装置４５は、薄板状基板を保持する保持部材４７と、内部に前記不活性ガスを流通させるための流路５２が形成されたパージプレート４６と、不活性ガス供給源と前記流路５２とを連通させる配管部材とを備える。パージプレート４６は、前記流路５２と連通して保持部材４７が保持する薄板状基板の被処理面に対向する面に設けられていて、前記不活性ガスを前記薄板状基板の前記被処理面に噴出するための噴出口５１を備える。さらに、保持装置４５は、保持部材４７とパージプレート４６とを相対的に昇降移動させる昇降機構４８を備える