LITHOGRAPHIC CLUSTER, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: TZEMAH, Irit, CATEY, Eric, CONNELLY, John
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 09.05.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

A lithographic cluster includes a track unit and a lithographic apparatus. The lithographic apparatus includes an alignment sensor and at least one controller. The track unit is configured to process a first lot and a second lot. The lithographic apparatus is operatively coupled to the track unit. The alignment sensor is configured to measure an alignment of at least one alignment mark type of a calibration wafer. At least one controller is configured to determine a correction set for calibrating the lithographic apparatus based on the measured alignment of the at least one alignment mark type and apply first and second weight corrections to the correction set for processing the first and second lots, respectively, such that overlay drifts or jumps during processing the first and second lots are mitigated. La présente invention concerne un groupe lithographique qui comprend une unité de suivi et un appareil lithographique. L'appareil lithographique comprend un capteur d'alignement et au moins un dispositif de commande. L'unité de suivi est configurée pour traiter un premier lot et un second lot. L'appareil lithographique est couplé de manière fonctionnelle à l'unité de suivi. Le capteur d'alignement est configuré pour mesurer un alignement d'au moins un type de marque d'alignement d'une tranche d'étalonnage. Au moins un dispositif de commande est configuré pour déterminer un ensemble de correction pour étalonner l'appareil lithographique sur la base de l'alignement mesuré du ou des type de marque d'alignement et pour appliquer des première et seconde corrections de poids à l'ensemble de correction pour traiter les premier et second lots, respectivement, de telle sorte que les dérives ou les sauts de recouvrement pendant le traitement des premier et second lots sont atténués.