METHOD FOR RESTORING AN ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV APPARATUS, AND DETECTOR MODULE

• Main Author: BAUMER, Florian
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 02.05.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING; TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES; TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

A method for restoring an illumination system installed in an EUV apparatus, said illumination system comprising a plurality of mirror modules which are installed at assigned installation positions and which define an illumination beam path leading from the source position to the illumination field, comprises a swap operation of a mirror module, in which a mirror module is disassembled from its installed position and removed from the illumination system, a mirror module with nominally the same design is installed in the installation position in place of the removed mirror module and the installed mirror module is adjusted in rigid body degrees of freedom in the installation position while changing the relative orientation of the mirror module. Before the swap operation, a reference measurement is performed in order to capture a reference state that represents the adjustment state before the start of the swap operation. After the swap operation has finished, a comparison measurement is performed and the adjustment state measured in the process is compared to the reference state in order to restore the adjustment state from before the swap operation. The following are measured during the reference measurement and the comparison measurement: positions of a first end portion (END1) and a second end portion (END2), lying opposite the first end portion, of the illumination field (BF), with the position of the illumination field not being measured inan intermediate portion (ZW) lying between the first and the second end portion; and a spatial distribution of measurement light in a pupil plane that is Fourier-transformed in relation to the exit plane for a field point lying in the intermediate portion(ZW). L'invention concerne un procédé de restauration d'un système d'éclairage installé dans un appareil EUV, ledit système d'éclairage comprenant une pluralité de modules de miroir qui sont installés en des positions d'installation attribuées et qui définissent un trajet de faisceau d'éclairage allant de la position de source au champ d'éclairage, et comprend une opération de permutation d'un module de miroir, dans laquelle un module miroir est démonté de sa position installée et retiré du système d'éclairage, un module de miroir ayant nominalement la même conception est installé dans la position d'installation à la place du module de miroir retiré, et le module de miroir installé est ajusté selon des degrés de liberté de corps rigide dans la position d'installation tout en changeant l'orientation relative du module de miroir. Avant l'opération de permutation, une mesure de référence est effectuée afin de capturer un état de référence qui représente l'état de réglage avant le début de l'opération de permutation. Une fois l'opération de permutation terminée, une mesure de comparaison est effectuée et l'état de réglage mesuré dans le processus est comparé à l'état de référence afin de restaurer l'état de réglage à partir avant l'opération de permutation. Les mesures suivantes sont mesurées pendant la mesure de référence et la mesure de comparaison : des positions d'une première partie d'extrémité (END1) et d'une seconde partie d'extrémité (END2), opposée à la première partie d'extrémité, du champ d'éclairage (BF), la position du champ d'éclairage non mesurée dans une partie intermédiaire (ZW) se trouvant entre la première et la seconde partie d'extrémité; et une distribution spatiale de lumière de mesure dans un plan de pupille qui est soumise à une transformée de Fourier par rapport au plan de sortie pour un point de champ situé dans la partie intermédiaire (ZW).