METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE

• Main Authors: NISHIOKA, Yukiya, SAKAMOTO, Mayuko
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.04.2019
• Subjects: ADVERTISING; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; DISPLAYING; EDUCATION; LABELS OR NAME-PLATES; PHYSICS; SEALS; SIGNS

This method for manufacturing a display device includes: a first film-forming step for forming a photocatalytic layer (AL) on the upper side of a substrate (13); a second film-forming step for forming a resin layer (12) on the photocatalytic layer such that the resin layer is positioned inside of the edges of the photocatalytic layer in a plan view; a third film-forming step for forming a barrier layer (3) so as to cover the upper surface and the end surfaces of the resin layer; a fourth film-forming step for forming a TFT layer (4) as a layer higher than the barrier layer; and a peeling step for separating the photocatalytic layer (AL) and the resin layer (12) from each other by irradiating the photocatalytic layer with ultraviolet light (LV). La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage comprenant : une première étape de formation de film consistant à former une couche photocatalytique (AL) sur le côté supérieur d'un substrat (13) ; une deuxième étape de formation de film consistant à former une couche de résine (12) sur la couche photocatalytique de sorte que la couche de résine soit positionnée à l'intérieur des bords de la couche photocatalytique dans une vue en plan ; une troisième étape de formation de film consistant à former une couche barrière (3) de manière à recouvrir la surface supérieure et les surfaces d'extrémité de la couche de résine ; une quatrième étape de formation de film consistant à former une couche de TFT (4) sous la forme d'une couche supérieure à la couche barrière ; et une étape de pelage consistant à séparer la couche photocatalytique (AL) et la couche de résine (12) l'une de l'autre par exposition de la couche photocatalytique à une lumière ultraviolette (LV). 基板（１３）の上側に光触媒層（ＡＬ）を形成する第１成膜工程と、前記光触媒層上に、樹脂層（１２）を、平面視において前記光触媒層のエッジの内側に位置するように形成する第２成膜工程と、前記樹脂層の上面および端面を覆うようにバリア層（３）を形成する第３成膜工程と、前記バリア層よりも上層にＴＦＴ層（４）を形成する第４成膜工程と、前記光触媒層に紫外線（ＬＶ）を照射し、光触媒層（ＡＬ）と樹脂層（１２）とを分離する剥離工程と、を含む表示デバイスの製造方法。