INTERFEROMETRIC STAGE POSITIONING APPARATUS

A stage apparatus for an e-beam inspection apparatus comprising: - an object table (3) comprising an supporting surface, the object table configured to support a substrate (190) on the supporting surface; - a positioning device (180) configured to a position the object table; a position measurement...

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Main Authors BAGGEN, Marcel, PRIL, Wouter, VAN DER PASCH, Engelbertus
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 11.04.2019
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Summary:A stage apparatus for an e-beam inspection apparatus comprising: - an object table (3) comprising an supporting surface, the object table configured to support a substrate (190) on the supporting surface; - a positioning device (180) configured to a position the object table; a position measurement system (5) comprising a position sensor (8-10) configured to measure a height position of the object table parallel to a first axis, the first axis being substantially perpendicular to the supporting surface, the position sensor comprising an interferometer measurement system having an interferometer sensor (9,10,22), wherein a measurement beam (11,15) of the interferometer sensor is configured to irradiate a reflective surface (13,17) of the object table in a measurement direction, the measurement direction having a first component parallel to the first axis and a second component parallel to a second axis, the second axis being substantially perpendicular to the first axis. L'invention concerne un appareil à platine pour un appareil d'inspection par faisceau d'électrons comprenant : une table porte-objet (3) comprenant une surface d'appui, la table porte-objet étant conçue pour porter un substrat (190) sur la surface d'appui; un dispositif de positionnement (180) conçu pour positionner la table porte-objet; un système de mesure de position (5) comprenant un capteur de position (8-10) conçu pour mesurer une position en hauteur de la table porte-objet parallèlement à un premier axe, le premier axe étant sensiblement perpendiculaire à la surface d'appui, le capteur de position comprenant un système de mesure à interféromètre comprenant un capteur interférométrique (9, 10, 22), un faisceau de mesure (11, 15) du capteur interférométrique étant conçu pour irradier une surface réfléchissante (13, 17) de la table porte-objet dans une direction de mesure, la direction de mesure présentant une première composante parallèle au premier axe et une seconde composante parallèle à un second axe, le second axe étant sensiblement perpendiculaire au premier axe.
Bibliography:Application Number: WO2018EP76571