SPUTTERING TARGET

• Main Authors: MUTSUDA Yuya, KIUCHI Kaho
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 21.03.2019
• Subjects: ARTIFICIAL STONE; CEMENTS; CERAMICS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDINGMATERIALS; CONCRETE; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; LIME, MAGNESIA; METALLURGY; REFRACTORIES; SLAG; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TREATMENT OF NATURAL STONE

This sputtering target is characterized by: being mainly composed of Zn, Sn and O, and containing Zn and Sn in amounts such that the Zn/(Zn + Sn) atomic ratio is within the range of from 0.1 to 0.6 (inclusive); and comprising tin oxide phases and tin zinc complex oxide phases as main phases, while also comprising tin metal phases. This sputtering target is also characterized in that: the amount of Sn present as the tin metal phases is within the range of from 1.0 mol% to 8.0 mol% (inclusive); the average of the circle-equivalent diameters of the tin metal phases is 1 μm or less; and the relative density is 95% or more. La présente invention concerne une cible de pulvérisation caractérisée en ce qu'elle est principalement composée de Zn, de Sn et d'O, et contient du Zn et du Sn en quantités telles que le rapport atomique Zn/(Zn + Sn) s'inscrit dans la plage de 0,1 à 0,6 (inclus) ; et en ce qu'elle comprend des phases d'oxyde d'étain et des phases d'oxyde complexe d'étain et de zinc en tant que phases principales, tout en comprenant également des phases métalliques d'étain. Cette cible de pulvérisation est également caractérisée en ce que : la quantité de Sn présent sous forme de phases métalliques d'étain s'inscrit dans la plage de 1,0 % en moles à 8,0 % en moles (inclus) ; la moyenne des diamètres de cercle équivalent des phases métalliques d'étain est inférieure ou égale à 1 µm ; et la densité relative est supérieure ou égale à 95 %. ＺｎとＳｎとＯを主成分とし、ＺｎとＳｎを原子比でＺｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）が０．１以上０．６以下の範囲内となるように含有し、酸化錫相と錫亜鉛複合酸化物相とを主相とするとともに、金属錫相を有しており、前記金属錫相として存在するＳｎ量が１．０ｍｏｌ％以上８．０ｍｏｌ％以下の範囲内とされており、前記金属錫相の円相当径の平均値が１μｍ以下とされ、相対密度が９５％以上とされていることを特徴とする。