CONTROL OF RETICLE PLACEMENT FOR DEFECTIVITY OPTIMIZATION

• Main Authors: JUDGE, Andrew, RIZO DIAGO, Pedro, BENDIKSEN, Aage
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.01.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

A system designed to couple a patterning device to a support structure having a plurality of burls includes a camera module, an actuator, and a controller. The camera module is designed to capture image data of a backside of the patterning device. The actuator is coupled to at least one burl of the plurality of burls and is designed to move the at least one burl. The controller is designed to receive the image data captured from the camera module and determine one or more locations of contamination on the backside of the patterning device from the image data. The controller is also designed to control the actuator to move the at least one burl of the plurality of burls away from the one or more locations of contamination on the backside of the patterning device, based on the determined locations of contamination. L'invention concerne un système conçu pour coupler un dispositif de formation de motifs à une structure de support ayant une pluralité de burls. L'invention comprend un module d'appareil photo, un actionneur et un dispositif de commande. Le module d'appareil photo est conçu pour capturer des données d'image concernant un côté arrière du dispositif de formation de motifs. L'actionneur est couplé à au moins un burl de la pluralité de burls et il est conçu pour déplacer le ou les burls. Le dispositif de commande est conçu pour recevoir les données d'image capturées à partir du module d'appareil photo et pour déterminer un ou plusieurs emplacements de contamination sur le côté arrière du dispositif de formation de motifs à partir des données d'image. Le dispositif de commande est également conçu pour commander l'actionneur afin de déplacer le ou les burls de la pluralité de burls à l'écart du ou des emplacements de contamination sur le côté arrière du dispositif de formation de motifs, et ce sur la base des emplacements de contamination déterminés.