CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE AND CLEANING METHOD
This charged-particle beam device comprises: a stage for placing a sample thereon; a cleaner for removing a contaminating substance present on the sample; and a stage control unit for moving the stage, thereby adjusting the relative positional relationship between the cleaner and the sample when usi...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
27.12.2018
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Summary: | This charged-particle beam device comprises: a stage for placing a sample thereon; a cleaner for removing a contaminating substance present on the sample; and a stage control unit for moving the stage, thereby adjusting the relative positional relationship between the cleaner and the sample when using the cleaner.
L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui comprend : un étage pour placer un échantillon sur celui-ci ; un dispositif de nettoyage pour éliminer une substance contaminante présente sur l'échantillon ; et une unité de commande d'étage pour déplacer l'étage, ajustant ainsi la relation de position relative entre le dispositif de nettoyage et l'échantillon lors de l'utilisation du dispositif de nettoyage.
荷電粒子線装置は、試料を載置するステージと、前記試料上の汚染物質を除去するクリーナと、前記クリーナの使用時に、前記クリーナと前記試料との相対的な位置関係を、前記ステージを移動させることにより調節するステージ制御部と、を備える。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2017JP22854 |