METHOD OF TREATING GLASS SUBSTRATE SURFACES

Manufacturing method of the glass substrate suitable for flat panel display having upper and lower major surfaces. While the glass substrate is conveyed, the lower surface is treated by two continuous process steps; i) contact with dry HF gas, where the dry HF gas can be generated by atmospheric pre...

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Main Authors KOBAYASHI, Hideki, NAKANISHI, Hisanori, MIZUSHIMA, Yasuyuki
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 20.12.2018
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Summary:Manufacturing method of the glass substrate suitable for flat panel display having upper and lower major surfaces. While the glass substrate is conveyed, the lower surface is treated by two continuous process steps; i) contact with dry HF gas, where the dry HF gas can be generated by atmospheric pressure plasma enhancement, and ii) contact with wet aqueous solution including HF, to achieve average surface roughness determined by AFM to be in a range of 0.5 to 1.5nm. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat en verre convenant à un écran plat ayant des surfaces principales supérieure et inférieure. Pendant que le substrat en verre est acheminé, la surface inférieure est traitée par deux étapes de traitement continues : i) la mise en contact avec du gaz HF sec, où le gaz HF sec peut être généré par activation par plasma à pression atmosphérique, et ii) la mise en contact avec une solution aqueuse humide comprenant du HF, pour obtenir une rugosité de surface moyenne déterminée par AFM afin d'être comprise dans une plage de 0,5 à 15 nm.
Bibliography:Application Number: WO2018US37711