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Provided is a film in which surface roughness SRa of at least one side is 100 nm or more and 3000 nm or less, a variation in the surface roughness SRa in a range of 20 cm × 14 cm is 10% or less, and 320 nm parallel line transmittance ST320 is 30% or more, wherein the film is capable of uniformly tra...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
01.11.2018
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Summary: | Provided is a film in which surface roughness SRa of at least one side is 100 nm or more and 3000 nm or less, a variation in the surface roughness SRa in a range of 20 cm × 14 cm is 10% or less, and 320 nm parallel line transmittance ST320 is 30% or more, wherein the film is capable of uniformly transferring low gloss tone appearance when used as a transfer film, capable of transferring low gloss appearance and performing shape fixation when a photocurable resin is used as a material to be transferred, and has an excellent processing step suitability including resistence to the problem of particle detachment or scraping.
L'invention concerne un film dont la rugosité de surface SRa d'au moins un côté est supérieure ou égale à 100 nm et inférieure ou égale à 3 000 nm, une variation de la rugosité de surface SRa comprise dans une plage de 20 cm × 14 cm est inférieure ou égale à 10 %, et une transmittance de ligne parallèle de 320 nm ST320 est supérieure ou égale à 30 %, le film étant apte à transférer uniformément un aspect de ton à faible brillance lorsqu'il est utilisé en tant que film de transfert, apte à transférer un aspect de faible brillance et à réaliser une mémoire de forme lorsqu'une résine photodurcissable est utilisée en tant que matériau à transférer, et convenant parfaitement à l'étape de traitement, résistant notamment au problème de détachement ou de raclage de particules.
少なくとも片面の表面粗さSRaが100nm以上3000nm以下であり、かつ20cm×14cm範囲における前記表面粗さSRaのバラツキが10%以下であり、320nmの平行線透過率ST320が30%以上であるフィルムによって、転写フィルムとして用いた場合に、均一に低光沢調外観を転写可能であり、かつ被転写材として光硬化性樹脂を用いた場合にも、低光沢外観の転写、形状固定が可能であり、粒子脱落やけずれといった不具合の発生しにくい良好な加工工程適性を有する、フィルムを提供する。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2018JP14694 |