OPTICAL SYSTEM, AND METHOD

• Main Authors: HILD, Kerstin, JÜRGENS, Dirk, GEH, Bernd
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 04.10.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Spiegelgrundkörper (206), eine Manipulatoreinrichtung (400) zum Positionieren und/oder Orientieren des Spiegelgrundkörpers (206), eine optisch wirksame Fläche (306, 306') zum Reflektieren von Strahlung (108A, 108B), und eine Aktuatorenmatrix (308), die zwischen dem Spiegelgrundkörper (206) und der optisch wirksamen Fläche (306, 306') angeordnet ist und die dazu eingerichtet ist, die optisch wirksamen Fläche (306, 306') zu verformen, um deren Reflexionseigenschaften zu beeinflussen, wobei zwischen der Aktuatorenmatrix (308) und einer Vorderseite (214) des Spiegelgrundkörpers (206) ein Spalt (316) zum Beabstanden der Aktuatorenmatrix (308) von dem Spiegelgrundkörper (206) vorgesehen ist. The invention relates to an optical system (200) for a lithography machine (100A, 100B), comprising a main mirror element (206), a manipulator device (400) for positioning and/or orienting said main mirror element (206), an optically active surface (306, 306') for reflecting radiation (108A, 108B), and an actuator matrix (308) which is positioned between the main mirror element (206) and the optically active surface (306, 306') and is configured to deform the optically active surface (306, 306') in order to influence the reflective properties thereof, a gap (316) being provided between the actuator matrix (308) and a front side (214) of the main mirror element (206) in order for the actuator matrix (308) to be spaced apart from the main mirror element (206). L'invention concerne un système optique (200) destiné à une installation de lithographie (100A, 100B), présentant un corps de base réfléchissant (206), un dispositif de manipulation (400) permettant de positionner et/ou d'orienter le corps de base réfléchissant (206), une surface optiquement active (306, 306') permettant de réfléchir le rayonnement (108A, 108B), et une matrice d'actionnement (308) qui est agencée entre le corps de base réfléchissant (206) et la surface optiquement active (306, 306') et qui est conçu pour déformer la surface optiquement active (306, 306') pour agir sur ses caractéristiques de réflexion, une fente (316) étant ménagée entre la matrice d'actionnement (308) et une face avant (214) du corps de base réfléchissant (206) pour écarter la matrice d'actionnement (308) du corps de base réfléchissant (206).