ETCH PROCESSING SYSTEM HAVING REFLECTIVE ENDPOINT DETECTION

• Main Authors: NGUYEN, Khiem, GRIMBERGEN, Michael
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 20.09.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Embodiments include wafer and photomask processing equipment. An etch processing system including an endpoint detection system having a light source and a photodetector is described. In an example, the light source emits light toward an alignment region over a substrate support member of an etch chamber, and the photodetector receives a reflection of the light from the alignment region. The reflection is monitored for endpoint and process control. A second light source emits light toward the alignment region, and a camera receives the light to image the alignment region. The image can be used to align the light emitted by the endpoint detection system to a spot location within the alignment region, e.g., within an alignment opening of a substrate mounted on the substrate support member. Des modes de réalisation de la présente invention comprennent une tranche et un équipement de traitement de photomasque. L'invention concerne un système de traitement de gravure comprenant un système de détection de point d'extrémité ayant une source de lumière et un photodétecteur. Dans un exemple, la source de lumière émet de la lumière vers une région d'alignement sur un élément de support de substrat d'une chambre de gravure, et le photodétecteur reçoit une réflexion de la lumière provenant de la région d'alignement. La réflexion est surveillée pour une commande de point d'extrémité et de traitement. Une seconde source de lumière émet de la lumière vers la région d'alignement, et une caméra reçoit la lumière pour imager la région d'alignement. L'image peut être utilisée pour aligner la lumière émise par le système de détection de point d'extrémité à un emplacement d'un spot dans la région d'alignement, par exemple, à l'intérieur d'une ouverture d'alignement d'un substrat monté sur l'élément de support de substrat.