POROUS FILM SEALING METHOD AND POROUS FILM SEALING MATERIAL

• Main Authors: URABE, Keiichiro, HATTORI, Taiki, TAHARA, Shigeru, DUSSARRAT, Christian, SHEN, Peng
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.09.2018
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Provided are a porous film sealing method and a porous film sealing material for sealing an object having a porous film to be sealed. A porous film sealing method according to the present invention is characterized by including a first step for supplying a first material into a treatment container that stores an object having a porous film to be sealed, wherein the first material includes a nonaromatic fluorocarbon having 6 or more carbon atoms. L'invention concerne un procédé de scellage de film poreux et un matériau de scellage de film poreux pour sceller un objet comportant un film poreux à sceller. Un procédé de scellage de film poreux selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il comprend une première étape consistant à introduire un premier matériau dans un récipient de traitement qui stocke un objet ayant un film poreux à sceller, le premier matériau contenant un fluorocarbone non aromatique ayant au moins 6 atomes de carbone. 多孔質膜を有する被封孔処理体に封孔処理をする多孔質膜封孔方法および多孔質膜封孔用材料を提供する。　本発明に係る多孔質膜封孔方法は、多孔質膜を有する被封孔処理体が収容された処理容器内に第１の材料を供給する第１の工程を含み、前記第１の材料は、炭素原子数が６以上の非芳香族フルオロカーボンを含むことを特徴とする。