CONTINUOUS SEPARATION INSTALLATION AND ASSEMBLY FOR SAME

• Main Authors: PASSIG, Michael, KÜHNLEIN, Holger, DÜMPELFELD, Wolfgang, BURSCHIK, John, SIEBER, Markus, HIRT, Thomas, UIHLEIN, Markus, BAY, Norbert, PYSCH, Damian, KETTERER, Andreas
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 14.06.2018
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

Durchlaufabscheideanlage (10; 20; 30; 50) zum galvanischen Abscheiden einer Substanz auf Objekten (1), wobei die genannte Durchlaufabscheideanlage (10; 20; 30; 50) Kontaktiervorrichtungen (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) mit wenigstens einem elektrisch leitfähigen Kontaktarm (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c) aufweist und die Kontaktiervorrichtungen (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) in Bereichen der Durchlaufabscheideanlage angeordnet sind, welche frei von einem für die galvanische Abscheidung der Substanz verwendeten Elektrolyten (7) sind, sowie Baugruppe (60) für eine Durchlaufabscheideanlage (50). The invention relates to a continuous separation installation (10; 20; 30; 50) for the galvanic deposition of a substance on objects (1), wherein said continuous separation installation (10; 20; 30; 50) comprises contacting devices (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) having at least one electrically conductive contact arm (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c), and wherein the contacting devices (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) are arranged in areas of the continuous separation installation, which are free from an electrolyte (7) used for the galvanic deposition of the substance. The invention also relates to an assembly (60) for a continuous separation installation (50). L'invention concerne une installation de dépôt en continu (10; 20; 30; 50) destinée au dépôt galvanostatique d'une substance sur des objets (1), l'installation de dépôt en continu (10; 20; 30; 50) mentionnée présentant des dispositifs de mise en contact électrique (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) dotés d'au moins un bras de contact électroconducteur (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c) et les dispositifs de mise en contact électrique (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) étant disposés dans des zones de l'installation de dépôt en continu, lesquelles sont exemptes d'un électrolyte (7) utilisé pour le dépôt galvanostatique de la substance, ainsi qu'un ensemble (60) destiné à l'installation de dépôt en continu (50).