SOLID-STATE IMAGING ELEMENT AND IMAGING DEVICE

The purpose of the present invention is to provide a solid-state imaging element with a lower height than a conventional one. Provided is a solid-state imaging element of a wafer level chip size package, comprising an optical sensor chip, a protection layer formed by lamination on the light receivin...

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Main Authors OOKA Yutaka, SASAKI Naoto
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 05.04.2018
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Summary:The purpose of the present invention is to provide a solid-state imaging element with a lower height than a conventional one. Provided is a solid-state imaging element of a wafer level chip size package, comprising an optical sensor chip, a protection layer formed by lamination on the light receiving surface of the optical sensor chip, and a rewiring layer formed by lamination on the opposite surface of the optical sensor chip to the light receiving surface, wherein the rewiring layer has a connecting terminal, which is a solder ball-less copper flat pad, no tin-copper alloy layer is formed on the surface of the flat pad, and the coefficient of thermal expansion of the protection layer and the coefficient of thermal expansion of the rewiring layer are substantially balanced with each other. L'objectif de la présente invention est de fournir un élément d'imagerie à semi-conducteurs ayant une hauteur inférieure à celle d'un élément classique. L'invention concerne un élément d'imagerie à semi-conducteurs d'un boîtier à puce sur tranche, comprenant une puce de capteur optique, une couche de protection formée par stratification sur la surface de réception de lumière de la puce de capteur optique, et une couche de recâblage formée par stratification sur la surface de la puce de capteur optique opposée à la surface de réception de lumière, la couche de recâblage ayant une borne de connexion, qui est une pastille plate en cuivre sans bille de soudure, aucune couche d'alliage étain-cuivre n'étant formée sur la surface de la pastille plate, et le coefficient de dilatation thermique de la couche de protection et le coefficient de dilatation thermique de la couche de recâblage étant sensiblement équilibrés l'un par rapport à l'autre. 従来に比べて固体撮像素子を更に低背化する。 光学センサチップと、前記光学センサチップの受光面上に積層形成された保護層と、前記光学センサチップの受光面の反対側の面に積層形成された再配線層と、を有し、前記再配線層の接続端子は、半田ボールレスの銅フラットパッドであり、前記フラットパッドの表面に錫と銅の合金層が形成されておらず、前記保護層の熱膨張率と前記再配線層の熱膨張率とが略均衡していることを特徴とするウェハーレベルチップサイズパッケージの固体撮像素子。
Bibliography:Application Number: WO2017JP28404