PLASMA IRRADIATION DEVICE AND PLASMA IRRADIATION METHOD

• Main Authors: JINDO Takahiro, HIGASHIDA Akihiro
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 01.03.2018
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROTHERAPY; HUMAN NECESSITIES; HYGIENE; MAGNETOTHERAPY; MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY

The present invention addresses the problem of providing a plasma irradiation device capable of controlling performance of plasma constant, said plasma being to be applied to a subject to which plasma is to be applied. The problem can be solved by means of a plasma irradiation device that includes at least: a plasma jetting device that jets plasma; a container capable of disposing inside at least a plasma jetting port of the plasma jetting device; and a gas sensor that measures the atmosphere in the container. La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un dispositif d'irradiation de plasma permettant de commander la performance de constante de plasma, ledit plasma devant être appliqué à un sujet auquel un plasma doit être appliqué. Le problème peut être résolu au moyen d'un dispositif d'irradiation de plasma qui comprend au moins : un dispositif de projection de plasma qui projette du plasma ; un récipient pouvant être disposé à l'intérieur d'au moins un orifice de projection de plasma du dispositif de projection de plasma ; et un capteur de gaz qui mesure l'atmosphère dans le récipient. 被照射体に照射するプラズマの能力を一定にコントロールできるプラズマ照射装置を提供することを課題とする。　プラズマを噴出するプラズマ噴出装置、前記プラズマ噴出装置の少なくともプラズマ噴出口を内部に配置できる容器、前記容器内の雰囲気を測定するガスセンサ、を少なくとも含む、プラズマ照射装置により課題を解決できる。