A MEMBRANE ASSEMBLY AND PARTICLE TRAP

• Main Authors: BURBANK, Daniel, Nathan, BAKER, Lowell, Lane, ALBRIGHT, Ronald, Peter
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 01.02.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Particle trap assemblies configured to reduce the possibility of contaminant particles with a large range of sizes, materials, travel speeds and angles of incidence reaching a particle-sensitive environment. The particle trap may be a gap geometric particle trap located between a stationary part and a movable part of the lithography apparatus. The particle trap may also be a surface geometric particle trap located on a surface of a particle sensitive environment in lithography or metrology apparatus. La présente invention concerne des ensembles pièges à particules qui sont configurés de sorte à réduire la possibilité de particules contaminantes dans une grande plage de tailles, de matériaux, de vitesses de déplacement et d'angles d'incidence atteignant un environnement sensible aux particules. Le piège à particules peut être un piège à particules géométrique d'espace situé entre une partie fixe et une partie mobile de l'appareil de lithographie. Le piège à particules peut également être un piège à particules géométrique de surface situé sur une surface d'un environnement sensible aux particules dans un appareil de lithographie ou de métrologie.