DEBRIS MITIGATION SYSTEM, RADIATION SOURCE AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: BROM, Paul, Peter, Anna, Antonius, RIEPEN, Michel, HULTERMANS, Ronald, Johannes
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 01.02.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; X-RAY TECHNIQUE

A debris mitigation system for use in a radiation source. The debris mitigation system comprises a contamination trap. The contamination trap comprises a debris receiving surface arranged to receive liquid metal fuel debris emitted from a plasma formation region of the radiation source. The debris receiving surface is constructed from a material that reacts with the liquid metal fuel debris to form an intermetallic layer on the debris receiving surface. Cette invention concerne un système d'atténuation des débris destiné à être utilisé dans une source de rayonnement. Le système d'atténuation des débris comprend un piège à contaminants. Le piège à contaminants comprend une surface de réception de débris conçue pour recevoir des débris de combustible métallique liquide émis par une région de formation de plasma de la source de rayonnement. La surface de réception de débris est construite à partir d'un matériau qui réagit avec les débris de combustible métallique liquide pour former une couche intermétallique sur la surface de réception de débris.