APPARATUS FOR DEPOSITING METAL FILMS WITH PLASMA TREATMENT
Embodiments of a gas delivery apparatus for use in a radio frequency (RF) processing apparatus are provided herein. In some embodiments, a gas delivery apparatus for use in a radio frequency (RF) processing apparatus includes: a conductive gas line having a first end and a second end; a first flange...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
11.01.2018
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Summary: | Embodiments of a gas delivery apparatus for use in a radio frequency (RF) processing apparatus are provided herein. In some embodiments, a gas delivery apparatus for use in a radio frequency (RF) processing apparatus includes: a conductive gas line having a first end and a second end; a first flange coupled to the first end; a second flange coupled to the second end, wherein the conductive gas line extends through and between the first and second flanges; and a block of ferrite material surrounding the conductive gas line between the first and second flanges.
L'invention concerne également des modes de réalisation d'un appareil de distribution de gaz destiné à être utilisé dans un appareil de traitement radiofréquence (RF). Dans certains modes de réalisation, un appareil de distribution de gaz destiné à être utilisé dans un appareil de traitement radiofréquence (RF) comprend : une ligne de gaz conductrice ayant une première extrémité et une seconde extrémité; une première bride couplée à la première extrémité; une seconde bride couplée à la seconde extrémité, la ligne de gaz conductrice s'étendant à travers et entre les première et seconde brides; et un bloc de matériau de ferrite entourant la ligne de gaz conductrice entre les premières et secondes brides. |
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Bibliography: | Application Number: WO2017US41091 |