PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTOR

• Main Authors: MORI Takateru, SHIOKAWA Koji, NARIMATSU Shuji
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.12.2017
• Subjects: ACCESSORIES THEREFOR; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USINGWAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FORPROJECTING OR VIEWING THEM; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHOTOGRAPHY; PHYSICS

The purpose of the present invention is to minimize damage caused by unwanted light beams passing through a projection optical system of a short throw projector. This projector 1 projects and magnifies image light generated by an image generation unit 3 using a projection optical system 4, and moves the incidence position of the image light into the projection optical system 4 using a lens shifting mechanism 5. The projection optical system 4 forms an intermediate image R at a midpoint in the optical path. A light shield mask 30 is provided at the imaging position P of the intermediate image R. A light shield region 31 created by the light shield mask 30 includes a region that does not overlap the intermediate image R within an effective imaging region R0 at the imaging position P of the intermediate image. For example, the light shield region 31 is a region located opposite the side where the intermediate image R shifts within the circular effective imaging region R0. La présente invention vise à réduire au minimum les dégâts causés par des faisceaux lumineux indésirables qui traversent un système optique de projection d'un projecteur à courte portée. Ce projecteur (1) projette et amplifie une lumière d'image générée par une unité de génération d'image (3) à l'aide d'un système optique de projection (4), et il déplace la position d'incidence de la lumière d'image dans le système optique de projection (4) au moyen d'un mécanisme de décalage de lentille (5). Ledit système optique de projection (4) forme une image intermédiaire (R) au milieu du chemin optique. Un masque de protection contre la lumière (30) se trouve à la position d'imagerie (P) de l'image intermédiaire (R). Une région de protection contre la lumière (31) créée par le masque de protection contre la lumière (30) inclut une région qui ne chevauche pas l'image intermédiaire (R) à l'intérieur d'une région d'imagerie effective (R0) à la position d'imagerie (P) de l'image intermédiaire. Par exemple, la région de protection contre la lumière (31) est une région située à l'opposé du côté où l'image intermédiaire (R) se décale à l'intérieur de la région d'imagerie effective circulaire (R0). 短焦点のプロジェクターにおいて投射光学系を通過する不要な光線によるダメージを低減させること。　プロジェクター１は、画像生成部３で生成した画像光を投射光学系４によって拡大投射するものであり、投射光学系４への画像光の入射位置をレンズシフト機構５によって移動させる。投射光学系４は、光路の途中で中間像Ｒを結像させる。中間像Ｒの結像位置Ｐには遮光マスク３０が設けられる。遮光マスク３０による遮光領域３１は、中間像の結像位置Ｐにおける有効結像領域Ｒ０の範囲内で中間像Ｒと重ならない領域を含む。例えば、遮光領域３１は、円形の有効結像領域Ｒ０のうち、中間像Ｒがシフトした側と反対側の領域である。