METHOD AND SYSTEM FOR THE REMOVAL AND/OR AVOIDANCE OF CONTAMINATION IN CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEMS

• Main Authors: KONING, Johan Joost, MOOK, Hindrik Willem, LODEWIJK, Chris Franciscus Jessica, LATTARD, Ludovic, SMITS, Marc
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 26.10.2017
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

A charged particle beam system is disclosed, comprising: -a charged particle beam generator for generating a beam of charged particles; -a charged particle optical column arranged in a vacuum chamber, wherein the charged particle optical column is arranged for projecting the beam of charged particles onto a target, and wherein the charged particle optical column comprises a charged particle optical element for influencing the beam of charged particles; -a source for providing a cleaning agent; -a conduit connected to the source and arranged for introducing the cleaning agent towards the charged particle optical element; wherein the charged particle optical element comprises: -a charged particle transmitting aperture for transmitting and/or influencing the beam of charged particles, and -at least one vent hole for providing a flow path between a first side and a second side of the charged particle optical element, wherein the vent hole has a cross section which is larger than a cross section of the charged particle transmitting aperture. Further, a method for preventing or removing contamination in the charged particle transmitting apertures is disclosed, comprising the step of introducing the cleaning agent while the beam generator is active. La présente invention concerne un système à faisceau de particules chargées, qui comprend : - un générateur de faisceau de particules chargées servant à générer un faisceau de particules chargées ; - une colonne optique à particules chargées disposée dans une chambre à vide, la colonne optique à particules chargées étant conçue pour projeter le faisceau de particules chargées sur une cible, et cette colonne optique à particules chargées comportant un élément optique à particules chargées qui permet d'influer sur ledit faisceau de particules chargées ; - une source destinée à fournir un agent de nettoyage ; - un conduit relié à la source et prévu pour introduire l'agent de nettoyage vers l'élément optique à particules chargées. Ledit élément optique à particules chargées inclut : - une ouverture de transmission de particules chargées permettant de transmettre le faisceau de particules chargées et/ou d'influer sur ce faisceau de particules chargées ; et - au moins un évent servant à fournir un trajet d'écoulement entre un premier côté et un second côté de l'élément optique à particules chargées, l'évent ayant une section transversale qui est plus grande qu'une section transversale de l'ouverture de transmission de particules chargées. En outre, la présente invention se rapporte à un procédé qui permet de prévenir ou de supprimer une contamination dans les ouvertures de transmission de particules chargées, et qui comprend l'étape consistant à introduire l'agent de nettoyage pendant que le générateur de faisceau est actif.