COATING AGENT FOR FORMING METAL OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING BASE HAVING METAL OXIDE FILM

• Main Authors: CORDONIER, Christopher, MISUMI, Koichi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 05.10.2017
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; COMPOUNDS THEREOF; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

To provide: a coating agent for forming a metal oxide film, which contains an organic solvent that is different from N, N-dimethyl acetamide (DMA) or N-methyl pyrrolidone (NMP), and which has excellent conformal coating properties; and a method for producing a base having a metal oxide film. A coating agent for forming a metal oxide film, which contains a solvent and a metal, and wherein the solvent contains a compound (A) represented by formula (1). (In formula (1), each of R1 and R2 independently represents an alkyl group having 1-3 carbon atoms; and R3 represents a group represented by formula (1-1) or formula (1-2). In formula (1-1), R4 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group; and each of R5 and R6 independently represents an alkyl group having 1-3 carbon atoms. In formula (1-2), each of R7 and R8 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms.) L'invention a pour objet : un agent de revêtement pour la formation d'un film d'oxyde métallique, qui contient un solvant organique qui est différent du N, N-diméthylacétamide (DMA) ou de la N-méthylpyrrolidone (NMP) et qui a d'excellentes propriétés de revêtement conforme ; et un procédé pour la production d'une base portant un film d'oxyde métallique. L'agent de revêtement pour la formation d'un film d'oxyde métallique contient un solvant et un métal, le solvant contenant un composé (A) représenté par la formule (1). (dans la formule (1), chacun de R1 et R2 représente indépendamment un groupe alkyle ayant 1-3 atomes de carbone ; et R3 représente un groupe représenté par la formule (1-1) ou la formule (1-2). Dans la formule (1-1), R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydroxyle ; et chacun de R5 et R6 représente indépendamment un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone. Dans la formule (1-2), chacun de R7 et R8 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1 à 3 atomes de carbone.) Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）やＮ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）とは異なる有機溶剤を含有し、コンフォーマルな塗布性に優れた、金属酸化物膜形成用塗布剤及び金属酸化物膜を有する基体の製造方法を提供すること。　溶剤と、金属と、を含有し、溶剤が、下記の式（１）で表される化合物（Ａ）を含有する、金属酸化物膜形成用塗布剤。（式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に炭素原子数１～３のアルキル基であり、Ｒ３は下式（１－１）又は下式（１－２）：で表される基である。式（１－１）中、Ｒ４は、水素原子又は水酸基であり、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に炭素原子数１～３のアルキル基である。式（１－２）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数１～３のアルキル基である。）