MICROFLUID CHANNEL WITH DEVELOPER PORT
An example microfluidic device comprises a substrate having a first surface and a cover layer above the first surface. The cover layer and the first surface form a microfluidic channel and a chamber. The example microfluidic device further comprises a functional port in the cover layer over the cham...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
22.06.2017
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Summary: | An example microfluidic device comprises a substrate having a first surface and a cover layer above the first surface. The cover layer and the first surface form a microfluidic channel and a chamber. The example microfluidic device further comprises a functional port in the cover layer over the chamber and at least one developer port in the cover layer over the microfluidic channel. The developer port is above a portion of the microfluidic channel that is not proximate to the functional port.
Un exemple de dispositif microfluidique comprend un substrat présentant une première surface et une couche de couverture au-dessus de la première surface. La couche de couverture et la première surface forment un canal microfluidique et une chambre. L'exemple de dispositif microfluidique comprend en outre un orifice fonctionnel dans la couche de couverture sur la chambre et au moins un orifice de développement dans la couche de couverture sur le canal microfluidique. L'orifice de développement est au-dessus d'une partie du canal microfluidique qui n'est pas à proximité de l'orifice fonctionnel. |
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Bibliography: | Application Number: WO2015US65604 |