METHOD FOR NANOMODULATING METAL FILMS BY MEANS OF HIGH-VACUUM CATHODE SPUTTERING OF METALS AND STENCILS
The present invention relates to a method for nanomodulating metal films by means of high-vacuum cathode sputtering of metals, and to stencils of anodised Al. As an example of the use of these nanomodulated metal films, the synthesis or production of a magnetically weak film by means of cathode sput...
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Format | Patent |
Language | English French Spanish |
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18.05.2017
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Summary: | The present invention relates to a method for nanomodulating metal films by means of high-vacuum cathode sputtering of metals, and to stencils of anodised Al. As an example of the use of these nanomodulated metal films, the synthesis or production of a magnetically weak film by means of cathode sputtering, which film can be used as a magnetic field sensor, and a metal nanomodulated stencil are analysed.
La presente invención se refiere a un método de nanomodulación de películas metálicas mediante pulverización catódica de metales en alto vacío y plantillas de Al anodizado. Como ejemplo de uso de estas películas metálicas nanomoduladas, se analiza la síntesis u obtención de una película magnéticamente blanda mediante pulverización catódica - que puede ser usada como sensor de campo magnético, y una plantilla nanomodulada metálica.
La présente invention concerne un procédé de nanomodulation de pellicules métalliques à l'aide d'une pulvérisation cathodique de métaux sous vide poussé et de modèles d'Al anodisé. Comme exemple d'utilisation de ces pellicules métalliques nanomodulées, on étudie la synthèse ou l'obtention d'une pellicule à caractère magnétique doux à l'aide d'une pulvérisation cathodique - qui pourrait être utilisée comme capteur de champ magnétique, et d'un modèle nanomodulé métallique. |
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Bibliography: | Application Number: WO2016CL50059 |