EXTREME UV LIGHT GENERATOR

• Main Authors: YABU Takayuki, ABE Tamotsu, MIYAO Kenichi, ABE Tooru
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.05.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

This extreme UV light generator may comprise: a chamber that has a window into which a first pulse laser beam and a second pulse laser beam enter; a mirror that reflects the first pulse laser beam; a first actuator that controls the position or posture of the mirror; a beam combiner that substantially matches the optical paths of the first pulse laser beam reflected by the mirror and the second pulse laser beam, for output; a reflection optical system that outputs the first pulse laser beam and the second pulse laser beam, output from the beam combiner, to a prescribed region; a second actuator that controls the position or posture of the reflection optical system; a plurality of sensors each of which outputs detection data for detecting the position of the optical path of the first pulse laser beam in the vicinity of the prescribed region; a controller that controls the first actuator on the basis of the detection data and controls the second actuator on the basis of a control value for the first actuator. La présente invention concerne un générateur de lumière UV extrême qui peut comprendre : une chambre possédant une fenêtre dans laquelle un premier faisceau laser pulsé et un second faisceau laser pulsé entrent; un miroir réfléchissant ledit premier faisceau laser pulsé; un premier actionneur commandant la position ou l'orientation du miroir; un mélangeur de faisceaux faisant pratiquement correspondre les chemins optiques du premier faisceau laser pulsé réfléchi par le miroir et du second faisceau laser pulsé, en vue de leur émission; un système optique de réflexion émettant ce premier faisceau laser pulsé et ce second faisceau laser pulsé, qui sont émis à partir du mélangeur de faisceaux, vers une région imposée; un second actionneur commandant la position ou l'orientation du système optique de réflexion; une pluralité de capteurs, chaque capteur délivrant des données de détection afin de détecter la position du chemin optique du premier faisceau laser pulsé à proximité de la région imposée; un contrôleur commandant le premier actionneur sur la base des données de détection et commandant le second actionneur sur la base d'une valeur de commande pour le premier actionneur. 極端紫外光生成装置は、第１のパルスレーザ光と第２のパルスレーザ光とが入射するためのウインドウを有するチャンバと、第１のパルスレーザ光を反射するミラーと、ミラーの位置又は姿勢を制御する第１のアクチュエータと、ミラーによって反射された第１のパルスレーザ光と第２のパルスレーザ光との光路をほぼ一致させて出力するビームコンバイナと、ビームコンバイナから出力された第１のパルスレーザ光及び第２のパルスレーザ光を、所定の領域に向けて出力する反射光学系と、反射光学系の位置又は姿勢を制御する第２のアクチュエータと、第１のパルスレーザ光の所定の領域の近傍における光路位置を検出するための検出データをそれぞれ出力する複数のセンサと、検出データに基づいて、第１のアクチュエータを制御し、第１のアクチュエータの制御値に基づいて、第２のアクチュエータを制御するコントローラと、を備えてもよい。