METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT-TRANSMISSIVE SUBSTRATE AND LIGHT-TRANSMISSIVE SUBSTRATE MANUFACTURED BY USING SAME

• Main Authors: CHOI, Yoon Soo, YOO, Young Zo, OH, Hee Bong, PARK, Tae Heon, LIM, Yeong Jin, JANG, Jin Tak, SON, Yoon Sang
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 04.05.2017
• Subjects: ELECTRICITY

The present invention provides a method for manufacturing a light-transmissive substrate comprising a first transparent conductive layer, a second transparent conductive layer, and a base polymer layer, the method comprising: a first step of preparing a release layer; a (2-1)th step of forming the first transparent conductive layer on the release layer; a (2-2)th step of forming, on the first transparent conductive layer, the second transparent conductive layer including a conductor and a polymer cladding layer for covering the conductor; a third step of forming the base polymer layer on the second transparent conductive layer; and a fourth step of separating the release layer from the first transparent conductive layer so as to obtain the light-transmissive substrate comprising the first transparent conductive layer and the base polymer layer. La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat laissant passer la lumière comprenant une première couche conductrice transparente, une deuxième couche conductrice transparente, et une couche polymère de base, le procédé consistant : en une première étape de préparation d'une couche de libération ; en une (2-1)ème étape de formation de la première couche conductrice transparente sur la couche de libération ; en une (2-2)ème étape de formation, sur la première couche conductrice transparente, de la deuxième couche conductrice transparente incluant un conducteur et une couche de revêtement polymère recouvrant le conducteur ; en une troisième étape de formation de la couche polymère de base sur la deuxième couche conductrice transparente ; et en une quatrième étape de séparation de la couche de libération de la première couche conductrice transparente afin d'obtenir le substrat laissant passer la lumière comprenant la première couche conductrice transparente et la couche polymère de base. 본 발명은 제1 투명전도층, 제2 투명전도층 및 기저 폴리머층을 포함하는 투광성 기판 제조방법으로서, 이형층을 준비하는 제1 단계; 상기 이형층 상에 제1 투명전도층을 형성하는 제2-1 단계; 상기 제1 투명전도층 상에 도전체 및 상기 도전체를 피복하는 폴리머피복층을 포함하는 제2 투명전도층을 형성하는 제2-2 단계; 상기 제2 투명전도층 상에 기저 폴리머층을 형성하는 제3 단계; 및 상기 이형층을 상기 제1 투명전도층으로부터 분리하여 제1 투명전도층 및 기저 폴리머층을 포함하는 투광성 기판을 얻는 제4 단계;를 포함하는 투광성 기판 제조방법을 제공한다.