METHOD OF REDUCING EFFECTS OF RETICLE HEATING AND/OR COOLING IN A LITHOGRAPHIC PROCESS

• Main Authors: KANT, Nick, LUTTIKHOF, Mark, Jan, Hendrik
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 30.03.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The invention relates to a method of reducing effects of reticle heating and/or cooling in a lithographic process, comprising the steps of: calibrating a linear time invariant reticle heating model using a system identification method; predicting distortions of the reticle using the reticle heating model and inputs in the lithographic process; and calculating and applying a correction in the lithographic process on the basis of the predicted distortions of the reticle. L'invention porte sur un procédé de réduction des effets d'un échauffement et/ou d'un refroidissement d'un réticule dans un processus lithographique, le procédé comprenant les étapes suivantes : calibrage d'un modèle d'échauffement de réticule linéaire invariant dans le temps au moyen d'un procédé d'identification de système ; prédiction de déformations du réticule au moyen du modèle d'échauffement de réticule et d'entrées dans le processus lithographique ; et calcul et application d'une correction dans le processus lithographique en fonction des déformations prédites du réticule.