METHOD FOR MANUFACTURING MOLD FOR IMPRINTING

• Main Authors: SAKATA, Ikumi, TAKEDA, Ai
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 23.03.2017
• Subjects: AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR; SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; TRANSPORTING; WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL

Provided is a method for manufacturing a mold for imprinting with which transfer failure is unlikely to occur. The present invention provides a method for manufacturing a mold for imprinting, the method being provided with: a winding step of winding a film mold having a resin layer on which a base pattern comprising an inverse pattern of a desired fine uneven pattern is formed, onto a column-shaped transfer roll so that a gap where the base pattern does not exist forms in a portion at which the two ends of the film mold abut one another; a resin filling step of filling the gap with a resin composition; and a pattern forming step of pressing a transfer pattern provided on a pattern adding mold onto the resin composition to form an additional pattern, including an inverse pattern of the transfer pattern, on the resin composition, wherein the filling with the resin composition is performed in such a way that the resin composition protrudes from the gap to form a protruding part thereof on a surface of the resin layer before or when the pattern adding mold is pressed onto the resin composition. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un moule d'estampage selon lequel un défaut de transfert est peu probable. La présente invention fournit un procédé de fabrication d'un moule d'estampage, le procédé comprenant : une étape d'enroulement consistant à enrouler un moule en film présentant une couche de résine sur laquelle un motif de base comprenant un motif inversé d'un motif fin irrégulier souhaité est formé, sur un rouleau de transfert en forme de colonne de sorte qu'un espace où le motif de base n'existe pas se forme dans une partie au niveau de laquelle les deux extrémités du moule en film viennent en butée l'une contre l'autre ; une étape de remplissage de résine consistant à remplir l'espace avec une composition de résine ; et une étape de formation de motif consistant à presser un motif de transfert prévu sur un moule d'ajout de motif sur la composition de résine pour former un motif supplémentaire, comprenant un motif inversé du motif de transfert, sur la composition de résine, le remplissage avec la composition de résine étant réalisé de façon à ce que la composition de résine fasse saillie depuis l'espace pour former une partie saillie de ce dernier sur une surface de la couche de résine avant ou lorsque le moule d'ajout de motif est pressé sur la composition de résine. 転写不良が生じにくいインプリント用モールドの製造方法を提供する。 本発明によれば、所望とする微細な凹凸パターンの反転パターンからなるベースパターンが形成された樹脂層を有するフィルムモールドを、両端の突き合わせ部において前記ベースパターンが存在しない隙間ができるように、円柱状の転写ロールに巻き付ける巻き付け工程と、前記隙間に樹脂組成物を充填する樹脂充填工程と、パターン追加モールドに設けられた転写パターンを前記樹脂組成物に押し付けることによって、前記転写パターンの反転パターンからなる追加パターンを前記樹脂組成物に形成するパターン形成工程を備え、前記樹脂組成物は、前記パターン追加モールドが前記樹脂組成物に押し付けられる前までに又は前記パターン追加モールドが前記樹脂組成物に押し付けられた際に、前記隙間から前記樹脂組成物がはみ出して前記樹脂層の表面上に前記樹脂組成物のはみ出し部分が形成されるように充填される、インプリント用モールドの製造方法が提供される。