SEAMLESS ROLL-TO-ROLL NANO-IMPRINTING

• Main Authors: VON MUEHLENEN, Adrian, STUCK, Alexander, HAFNER, Andreas, NOERENBERG, Ralf
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 02.03.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A seamless shim for roll-to-roll or roll-to-plate nanoimprint lithography may be obtained by (a) providing a relief master, which is a nanostructured surface comprising a specific area with a pattern, which does not contain any optically detectable seam, (b) providing a cylindrical substrate whose outer surface is smaller than the specific surface area on the relief master, (c) applying a radiation curable coating on the nanostructured surface and/or the cylindrical substrate to a wet film thickness ranging from 50 nm to 1.8 micrometer, preferably up to 1.0 micrometer, (d) transferring the pattern of the specific surface area on the relief master to the cylindrical substrate by applying electromagnetic radiation or heat to the curable coating in the contact area between the nanostructured surface of the relief master and the cylindrical substrate's surface, characterized in that the contact area is moved over a length, which exceeds the cylindrical substrate's circumference, and the dosage of electromagnetic radiation applied at one contact does not effect full cure of the coating. The shim thus obtained allows for the cost efficient preparation of large scaled nanopatterned substrates, e.g. transparent films, without visually detectable defects. L'invention concerne une cale sans coupure pour lithographie par nano-impression de rouleau-à-rouleau ou de rouleau-à-plaque, qui peut être obtenue (a) par utilisation d'un relief maître, qui est une surface nano-structurée comprenant une surface spécifique ayant un motif, qui ne contient pas de coupure optiquement détectable, (b) par utilisation d'un substrat cylindrique dont la surface externe est plus petite que l'aire de surface spécifique sur le relief maître, (c) par application d'un revêtement pouvant durcir par rayonnement sur la surface nano-structurée et/ou le substrat cylindrique à une épaisseur de film humide allant de 50 nm à 1,8 micromètres, de préférence jusqu'à 1,0 micromètre, (d) par transfert du motif de l'aire de surface spécifique sur le relief maître au substrat cylindrique par application de rayonnement électromagnétique ou de chaleur sur le revêtement pouvant durcir dans la zone de contact entre la surface nano-structurée du relief maître et la surface du substrat cylindrique, caractérisée par le fait que la zone de contact est déplacée sur une longueur qui dépasse la circonférence du substrat cylindrique, et le dosage de rayonnement électromagnétique appliqué au niveau d'un contact n'a pas d'incidence sur la vulcanisation totale du revêtement. La cale ainsi obtenue permet la préparation économique de substrats à nano-motif à grande échelle, par exemple des films transparents, sans défauts visuellement détectables.