VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR FORMING FILM BY VAPOR DEPOSITION

• Main Authors: KIKUCHI, Katsuhiro, KAWATO, Shinichi, INOUE, Satoshi, NIBOSHI, Manabu, KOBAYASHI, Yuhki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 16.02.2017
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A vapor deposition particle ejecting unit (30) in a vapor deposition source (10) is provided with: a plurality of levels of nozzle units that are vertically stacked apart from each other, each of which nozzle units having at least one vapor deposition nozzle (32, 52); and at least one spacer (43) provided between the vapor deposition nozzles on the respective levels. The four sides of the spacers are surrounded by side walls (44) to which are provided at least one opening (45) for connecting the spacers and a vacuum chamber space (2a). Selon l'invention une unité (30) d'éjection de particules pour le dépôt en phase vapeur dans une source (10) pour le dépôt en phase vapeur comprend : une pluralité de niveaux d'unités à buse qui sont empilées verticalement à distance les unes des autres, chacune de ces unités à buse ayant au moins une buse de dépôt en phase vapeur (32, 52); et au moins un élément d'espacement (43) disposé entre les buses de dépôt en phase vapeur sur les niveaux respectifs. Les quatre côtés des éléments d'espacement sont entourés de parois latérales (44) sur lesquelles est ménagée au moins une ouverture (45) pour le raccordement des éléments d'espacement et d'un espace de chambre à vide (2a). 蒸着源（１０）における蒸着粒子射出ユニット（３０）は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズル（３２・５２）を有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段のノズルユニットと、各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部（４３）と、を備え、該空間部は、その四方が、該空間部と真空チャンバ内空間（２ａ）とを繋ぐ開口部（４５）が少なくとも１つ設けられた側壁（４４）で囲まれている。