PATTERNING DEVICE COOLING SYSTEMS IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: VAN DER GAAG, Marc, Léon, WARD, Christopher, Charles, VAN BOKHOVEN, Laurentius, Johannes, Adrianus, KUNNEN, Johan, Gertrudis, Cornelis
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 19.01.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A lithographic apparatus (100) includes a patterning device support structure (104) configured to support a patterning device (110), a gas inlet (116) configured to provide a gas flow (114) across a surface of the patterning device, and a temperature conditioning device (134) configured to condition the temperature of the gas flow based on a set point. The apparatus also includes a sensor (132) configured to measure a parameter indicative of an amount of heat added to at least one of the patterning device and a volume (126) between the patterning device and a lens (124) of a projection system (106) during operational use of the lithographic system. Further, the apparatus includes a controller (130) operatively coupled to the sensor and configured to adjust the set point based on the parameter measured by the sensor to control a temperature of the patterning device. L'invention concerne un appareil lithographique (100) comprenant une structure de support de dispositif de formation de motif (104) configurée pour supporter un dispositif de formation de motif (110), une entrée de gaz (116) configurée pour fournir un flux de gaz (114) à travers une surface du dispositif de formation de motif, et un dispositif de conditionnement de température (134) configuré pour conditionner la température du flux de gaz sur la base d'un point de consigne. L'appareil comprend également un capteur (132) configuré pour mesurer un paramètre indicatif d'une quantité de chaleur ajoutée à au moins l'un du dispositif de formation de motif et d'un volume (126) entre le dispositif de formation de motif et une lentille (124) d'un système de projection (106) pendant une utilisation opérationnelle du système lithographique. L'appareil comprend en outre un dispositif de commande (130) couplé de manière opérationnelle au capteur et configuré pour ajuster le point de consigne sur la base du paramètre mesuré par le capteur afin de commander une température du dispositif de formation de motif.