GASIFICATION DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCTION METHOD

• Main Authors: HARA, Daisuke, TATENO, Hideto
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 15.12.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

[Problem] To provide a technique for generating stably a gasified gas in a liquid gasification process. [Solution] The gasification device comprises: a gasification container having an introduction port and an discharge port for a carrier gas; a dripping nozzle constituted in such a manner as to drip into a gasification container a liquid containing two or more substances whereof the boiling points inside the gasification container are different; a first gasification surface, which is horizontal or is inclined with respect to the horizontal, provided inside the gasification container at a dripping position of the liquid from the dripping nozzle; a heater for heating the first gasification surface; and an inclination angle adjustment mechanism for adjusting the inclination angle of the first gasification surface. Le problème décrit par la présente invention est de fournir une technique permettant de générer de manière stable un gaz gazéifié dans un procédé de gazéification de liquide. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de gazéification qui comprend : un récipient de gazéification ayant un orifice d'introduction et un orifice de décharge pour un gaz porteur ; une buse d'égouttement constituée de manière à faire tomber goutte à goutte dans un récipient de gazéification un liquide contenant deux substances ou plus dont les points d'ébullition à l'intérieur du récipient de gazéification sont différents ; une première surface de gazéification, qui est horizontale ou qui est inclinée par rapport à l'horizontal, disposée à l'intérieur du récipient de gazéification à une position d'égouttement du liquide à partir de la buse d'égouttement ; un dispositif de chauffage permettant de chauffer la première surface de gazéification ; et un mécanisme d'ajustement d'angle d'inclinaison permettant d'ajuster l'angle d'inclinaison de la première surface de gazéification. ［課題］　液体の気化工程において、気化ガスを安定的に生成する技術を提供する。 ［解決手段］　気化装置において、キャリアガスの導入ポートと排出ポートを有する気化容器と、気化容器内において沸点が異なる２つ以上の物質が含まれる液体を気化容器内に滴下するよう構成される滴下ノズルと、気化容器内において滴下ノズルから液体が滴下される位置に設けられ、水平若しくは水平に対して傾斜を有する第１の気化面と、前記第１の気化面を加熱するヒータと、前記第１の気化面の傾斜の角度を変化させる傾斜角調整機構と、を備える。