APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING NANOSCALE THREE-DIMENSIONAL STRUCTURE

• Main Authors: KIM, Eun-Seob, LEE, Hyun Taek, AHN, Sung-Hoon, YOON, Hae-Sung, JANG, Ki-Hwan
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 20.10.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a nanoscale three-dimensional structure. The apparatus for manufacturing a nanoscale three-dimensional structure according to the present invention is an apparatus for manufacturing a nanoscale three-dimensional structure using a nanofocused printing method and comprises: a first work part for coating a substrate with a sacrificial layer according to a first control signal; a second work part for, according to a second control signal, irradiating a focused ion beam and forming a three-dimensional structure frame by means of the irradiated focused ion beam; a third work part for accumulating nanoparticles, using a focused printing method, on the three-dimensional structure frame according to a third control signal; a fourth work part for removing, according to a fourth control signal, the sacrificial layer remaining on the substrate on which the nanoparticles are accumulated; a transport part for transporting, according to a transport signal, the substrate in order to provide the substrate to any one of the first work part, the second work part, the third work part, and the fourth work part; and a control part for storing a process plan and for generating the first control signal, the second control signal, the third control signal, the fourth control signal, and the transport signal according to the process plan. La présente invention concerne un appareil et un procédé de fabrication d'une structure tridimensionnelle à l'échelle nanoscopique. L'appareil de fabrication d'une structure tridimensionnelle à l'échelle nanoscopique selon la présente invention est un appareil de fabrication d'une structure tridimensionnelle à l'échelle nanoscopique en utilisant un procédé d'impression à nanofocalisation et comprend : une première partie de travail destinée à revêtir un substrat avec une couche sacrificielle conformément à un premier signal de commande ; une deuxième partie de travail destinée à, conformément à un deuxième signal de commande, irradier un faisceau d'ions focalisé et former un cadre de structure tridimensionnelle au moyen du faisceau d'ions focalisé irradié ; une troisième partie de travail destinée à accumuler des nanoparticules, en utilisant un procédé d'impression à focalisation, sur le cadre de structure tridimensionnelle conformément à un troisième signal de commande ; une quatrième partie de travail destinée à enlever, conformément à un quatrième signal de commande, la couche sacrificielle restant sur le substrat sur lequel se sont accumulées les nanoparticules ; une partie de transport destinée à transporter, conformément à un signal de transport, le substrat de manière à fournir le substrat à l'une quelconque de la première partie de travail, la deuxième partie de travail, la troisième partie de travail et la quatrième partie de travail ; et une partie de commande destinée à stocker un plan de processus et à générer le premier signal de commande, le deuxième signal de commande, le troisième signal de commande, le quatrième signal de commande et le signal de transport conformément au plan de processus. 본 발명은, 나노스케일 3차원 구조 제작 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나노스케일 3차원 구조 제작 장치는, 나노집속 프린팅 방식을 이용한 나노스케일 3차원 구조 제작 장치에 있어서, 제1 제어 신호에 따라 기판 상에 희생층을 코팅하는 제1 작업부; 제2 제어 신호에 따라 집속 이온빔을 주사하고, 주사된 상기 집속 이온빔에 의하여 3차원 구조 프레임을 형성하는 제2 작업부; 제3 제어 신호에 따라 상기 3차원 구조 프레임 상에 집속 인쇄 방식을 이용하여 나노 입자를 적층하는 제3 작업부; 제4 제어 신호에 따라 상기 나노 입자가 적층된 기판 상에 남아있는 상기 희생층을 제거하는 제4 작업부; 이송 신호에 따라 상기 기판을 상기 제1 작업부, 상기 제2 작업부, 상기 제3 작업부 및 상기 제4 작업부 중 어느 하나에 제공하기 위하여 이송하는 이송부; 및 공정 계획이 저장되고, 상기 공정 계획에 따라 상기 제1 제어 신호, 상기 제2 제어 신호, 상기 제3 제어 신호, 상기 제4 제어 신호 및 상기 이송 신호를 생성하는 제어부를 포함한다.