GAS BARRIER FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

• Main Authors: OISHI, Kiyoshi, MOMMA, Chiaki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 25.08.2016
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; LAYERED PRODUCTS; LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSPORTING

The purpose of the present invention is to provide a gas barrier film having exceptional gas barrier properties and resistance to folding, as well as exceptionally uniform gas barrier properties, and a method for manufacturing a gas barrier film, having excellent functional stability during production. This gas barrier film is characterized by having, on a base material, a gas barrier layer that contains carbon atoms, silicon atoms, and oxygen atoms, the film composition varying continuously in the layer thickness direction, the oxygen atom percentage differential (A - B), where A (at%) denotes the greatest maximum value of the oxygen distribution curve closest to the base material surface side of the gas barrier layer among oxygen distribution curves in the depth direction measured by X-ray photoemission spectroscopy of the gas barrier layer, and B (at%) denotes the smallest minimum value in the layer thickness direction of the gas barrier layer, is within a range of 20-50 (at%), and the maximum value A of the oxygen distribution curve closest to the base material surface side of the gas barrier layer is the largest amount among the maximum values of the oxygen distribution curves within the gas barrier layer. L'objectif de la présente invention est de fournir un film barrière au gaz possédant d'exceptionnelles propriétés de barrière au gaz et une excellente résistance au pliage, ainsi que des propriétés de barrière au gaz exceptionnellement homogènes, et un procédé de fabrication d'un film barrière au gaz, possédant une excellente stabilité fonctionnelle pendant la production. Ce film barrière au gaz est caractérisé en qu'il comporte, sur un matériau de base, une couche de barrière au gaz qui contient des atomes de carbone, des atomes de silicium et des atomes d'oxygène, la composition de film variant de façon continue dans la direction d'épaisseur de couche, la différence de pourcentage d'atome d'oxygène (A - B), où A (% at.) désigne la plus grande valeur maximale de la courbe de distribution d'oxygène la plus proche du côté de surface de matériau de base de la couche de barrière au gaz parmi les courbes de distribution d'oxygène dans la direction en profondeur mesurées par spectroscopie de photo-émission de rayons X de la couche de barrière au gaz, et B (% at.) désigne la plus petite valeur minimale dans la direction d'épaisseur de couche de la couche de barrière au gaz, se trouve dans une plage de 20 à 50 (% at.), et la valeur maximale A de la courbe de distribution d'oxygène la plus proche du côté de surface de matériau de base de la couche de barrière au gaz est la quantité la plus importante parmi les valeurs maximales des courbes de distribution d'oxygène au sein de la couche de barrière au gaz. 　本発明の課題は、優れたガスバリアー性及び折り曲げ耐性を有し、かつガスバリアー性均一性に優れたガスバリアーフィルムと、生産時の性能安定性に優れたガスバリアーフィルムの製造方法を提供することである。　本発明のガスバリアーフィルムは、基材に、炭素原子、ケイ素原子及び酸素原子を含有し、層厚方向に膜組成が連続的に変化するガスバリアー層を有し、前記ガスバリアー層のＸ線光電子分光法による深さ方向の酸素分布曲線において、前記ガスバリアー層の基材面側に最も近い酸素分布曲線の最大の極大値をＡ（ａｔ％）とし、前記ガスバリアー層の層厚方向における最小の極小値をＢ（ａｔ％）としたとき、酸素原子比率差（Ａ－Ｂ）が、２０～５０（ａｔ％）の範囲内であり、かつ前記ガスバリアー層の基材面側に最も近い酸素分布曲線の極大値Ａが、ガスバリアー層内の酸素分布曲線の極大値の中で最大値であることを特徴とする。