SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE

• Main Authors: KOMIYA HIROSHI, TAKAKI YASUHIRO, TANAKA KOJI, UMENO SHINICHI, ANAMOTO ATSUSHI, SATOH TAKAMI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 23.06.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

A substrate liquid processing device according to an embodiment is provided with a transportation part, a processing part, a storage part, and a liquid feed mechanism. A transportation device for transporting a substrate is disposed in the transportation part. The processing part is horizontally adjacent to the transportation part, and a liquid processing unit for processing the substrate using a processing liquid is disposed in the processing part. The storage part stores the processing liquid. The liquid feed mechanism feeds the processing liquid stored in the storage part to the liquid processing unit. The storage part is disposed directly below the transportation part. The liquid feed mechanism is disposed directly below the processing part. The invention makes it possible to reduce the space taken up by the substrate liquid processing device. La présente invention concerne un dispositif de traitement de substrat à l'aide d'un liquide qui, selon un mode de réalisation, comporte une partie transport, une partie traitement, une partie stockage et un mécanisme d'apport de liquide. Un dispositif de transport destiné à transporter un substrat est disposé dans la partie transport. La partie traitement est horizontalement adjacente à la partie transport et une unité de traitement à l'aide de liquide, permettant de traiter le substrat à l'aide d'un liquide de traitement, est disposée dans la partie traitement. La partie stockage stocke le liquide de traitement. Le mécanisme d'apport de liquide apporte le liquide de traitement stocké dans la partie stockage à l'unité de traitement à l'aide de liquide. La partie stockage est disposée directement au-dessous de la partie transport. Le mécanisme d'apport de liquide est disposé directement au-dessous de la partie traitement. L'invention permet de réduire l'espace occupé par le dispositif de traitement de substrat à l'aide d'un liquide. 　実施形態の一態様に係る基板液処理装置は、搬送部と、処理部と、貯留部と、送液機構とを備える。搬送部は、基板を搬送する搬送装置が配置される。処理部は、搬送部に水平方向に隣接し、処理液を用いて基板を処理する液処理ユニットが配置される。貯留部は、処理液を貯留する。送液機構は、貯留部に貯留された処理液を液処理ユニットへ送り出す。貯留部は、搬送部の直下に配置される。また、送液機構は、処理部の直下に配置される。基板液処理装置の省スペース化を図ることができる。