EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING DEVICE
An extreme ultraviolet light generating device that generates extreme ultraviolet light by generating plasma by irradiating a target with pulsed laser light outputted from a laser device may be provided. This extreme ultraviolet light generating device may include: a chamber; a target supply unit th...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
26.05.2016
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Summary: | An extreme ultraviolet light generating device that generates extreme ultraviolet light by generating plasma by irradiating a target with pulsed laser light outputted from a laser device may be provided. This extreme ultraviolet light generating device may include: a chamber; a target supply unit that supplies a target to a plasma generating region in the chamber; a target sensor, which is positioned between the target supply unit and the plasma generating region, and detects the target passing through a detection region; and a shielding cover, which is disposed between the detection region and the target supply unit, and includes a through hole through which the target passes, said shielding cover reducing pressure waves being transmitted from the plasma generating region to the target supply unit.
La présente invention porte sur un dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême qui génère de la lumière ultraviolette extrême par génération d'un plasma par exposition d'une cible à de la lumière laser pulsée émise par un dispositif laser. Ce dispositif de génération de lumière ultraviolette extrême peut comprendre : une chambre ; une unité d'alimentation en cible qui amène une cible dans une région de génération de plasma dans la chambre ; un capteur de cible, qui est positionné entre l'unité d'alimentation en cible et la région de génération de plasma, et détecte la cible passant à travers une région de détection ; et un couvercle de blindage, qui est disposé entre la région de détection et l'unité d'alimentation en cible, et comporte un trou traversant à travers lequel la cible passe, le couvercle de blindage réduisant des ondes de pression qui sont transmises de la région de génération de plasma à l'unité d'alimentation en cible.
レーザ装置から出力されたパルスレーザ光をターゲットに照射することによって、プラズマを生成し、極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置が提供されてもよい。極端紫外光生成装置は、チャンバと、チャンバ内のプラズマ生成領域に、ターゲットを供給する、ターゲット供給部と、ターゲット供給部とプラズマ生成領域との間に位置し、検出領域を通過するターゲットを検出するターゲットセンサと、検出領域とターゲット供給部との間に配置され、ターゲットが通過する貫通孔を含み、プラズマ生成領域からターゲット供給部に伝わる圧力波を低減する遮蔽カバーと、を含んでもよい。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2014JP80721 |