NOZZLE, FILM FORMING APPARATUS, AND FILM FORMING METHOD

• Main Authors: HIRANO, SATOSHI, KAWASAKI, KOICHI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 06.05.2016
• Subjects: APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; ATOMISING APPARATUS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; NOZZLES; PERFORMING OPERATIONS; SPRAYING APPARATUS; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSPORTING

Provided is a nozzle for a film forming apparatus using a cold spray method, said nozzle being capable of accelerating powder discharged from the nozzle using a simple structure. A nozzle 5 used in a film forming apparatus that discharges a powder of a material together with a gas, sprays and deposits the powder in a solid state onto the surface of a substrate, and thus forms a film, said nozzle 5 comprising: a nozzle tube 20 having therein a passage 20a through which both the powder and the gas pass; a vortex forming unit 21 that is located at the front end portion of the nozzle tube 20 and forms a swirl flow around a region in which the powder spurted from the nozzle tube 20 flows; a gas supply tube 22; and a gas supply unit 23. L'invention fournit une buse, ou similaire, qui dans un dispositif de formation de film mettant en œuvre une projection dynamique par gaz froid, permet au moyen d'une configuration de dispositif simple l'accélération d'une poudre pulvérisée par la buse. Cette buse (5) est mise en œuvre dans un dispositif de formation de film destiné à former un film de revêtement en pulvérisant avec un gaz une poudre de matière, et en accumulant par soufflage cette poudre à l'état de phase solide à la surface d'un matériau de base. En outre, cette buse est équipée : d'un conduit de buse (20) dans la partie interne duquel est formé un trajet de circulation (20a) dans lequel la poudre circule avec le gaz; et d'une partie de formation cyclonique (21), d'un conduit d'alimentation en gaz (22) ainsi que d'une partie d'alimentation en gaz (23) qui sont agencés au niveau de la partie extrémité avant du conduit de buse (20), et qui forment un écoulement rotationnel à la périphérie d'une région d'écoulement de la poudre pulvérisée depuis le conduit de buse (20). 　コールドスプレー法による成膜装置において、ノズルから噴射される粉末を、簡素な装置構成で高速化することができるノズル等を提供する。ノズル５は、材料の粉末をガスと共に噴射し、粉末を基材の表面に固相状態のままで吹き付けて堆積させることにより皮膜を形成する成膜装置において用いられるノズルであって、粉末をガスと共に通過させる通路２０ａが内部に形成されたノズル管２０と、ノズル管２０の先端部に設けられ、ノズル管２０から噴射される粉末が流れる領域の周囲に旋回流を形成するサイクロン形成部２１、ガス供給管２２、及びガス供給部２３とを備える。