MULTI-MASK ALIGNMENT SYSTEM AND METHOD

• Main Author: BUCCI, BRIAN, ARTHUR
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 21.04.2016
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

In a multi-mask alignment system and method, a carrier frame is provided having a number of apertures therethrough. A number of shadow mask - frame combinations are also provided. Each shadow mask - frame combination includes a first set of alignment features and each shadow mask - frame combination is positioned on a first side of the carrier with the frame supporting the shadow mask in alignment with one of the apertures. An alignment system is provided and a control system including a programmed controller is also provided. Under the control of the controller, the alignment system is caused to adjust the position of each shadow mask - frame combination with respect to the carrier based on positions of the first set of alignment features determined by the controller. L'invention concerne un système et un procédé d'alignement de plusieurs masques, dans lesquels un cadre de support est prévu, possédant un certain nombre d'ouvertures le traversant. Un certain nombre de combinaisons masque perforé/cadre est également prévu. Chaque combinaison masque perforé/cadre comprend un premier ensemble de caractéristiques d'alignement et chaque combinaison masque perforé/cadre est positionnée sur un premier côté du support, le cadre supportant le masque perforé aligné sur l'une des ouvertures. Un système d'alignement est prévu et un système de commande comprenant une unité de commande programmée est également prévue. Sous la commande de l'unité de commande, le système d'alignement est amené à ajuster la position de chaque combinaison masque perforé/cadre par rapport au support sur la base de positions du premier ensemble de caractéristiques d'alignement déterminées par l'unité de commande.