CERAMIC STRUCTURE, MEMBER FOR SUBSTRATE HOLDING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING CERAMIC STRUCTURE

A ceramic structure 10 in which an electrode 14 is provided inside a disc-shaped ceramic base 12. The ceramic base 12 is a sintered body having, as the main component, alumina or a rare earth metal oxide. The ceramic base 12 has a thermal expansion coefficient of 7.5-9.5 ppm/K at 40-1200°C. The main...

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Main Authors NISHIMURA, NOBORU, KATSUDA, YUJI
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 24.03.2016
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Summary:A ceramic structure 10 in which an electrode 14 is provided inside a disc-shaped ceramic base 12. The ceramic base 12 is a sintered body having, as the main component, alumina or a rare earth metal oxide. The ceramic base 12 has a thermal expansion coefficient of 7.5-9.5 ppm/K at 40-1200°C. The main component of the electrode 14 is metal ruthenium. The electrode 14 may be formed to a sheet shape, or may be formed in a single-stroke pattern so as to spread throughout the entire surface.  L'invention concerne une structure en céramique (10) dotée d'une électrode (14) qui est disposée à l'intérieur d'une base en céramique (12) en forme de disque. La base en céramique (12) est un corps fritté ayant, comme composant principal, de l'alumine ou un oxyde métallique de terres rares. La base en céramique (12) a un coefficient de dilatation thermique de 7,5 à 9,5 ppm/K à une température de 40 à 1 200 °C. Le composant principal de l'électrode (14) est un ruthénium de métal. L'électrode (14) peut être formée de manière à présenter une forme de feuille, ou peut être formée suivant un motif à course unique de façon à s'étaler sur toute la surface.  セラミック構造体10は、円盤状のセラミック基体12の内部に電極14を内蔵したものである。セラミック基体12は、主成分がアルミナ又は希土類金属酸化物の焼結体であり、熱膨張係数は40~1200℃で7.5~9.5ppm/Kである。電極14は、主成分が金属ルテニウムである。電極14は、シート状に形成されていてもよいし、面全体に広がるように一筆書きの要領でパターン形成されていてもよい。
Bibliography:Application Number: WO2015JP72968