CHEMICALLY STABLE ALKYL ALUMINUM SOLUTION, ALKYL ALUMINUM HYDROLYSATE COMPOSITION SOLUTION, COMPOSITION FOR ALUMINUM OXIDE FILM COATING FORMATION, ARTICLE HAVING ALUMINUM OXIDE FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM OXIDE THIN-FILM, METHOD FOR PRODUCING PASSIVATION FILM, PASSIVATION FILM, AND SOLAR CELL ELEMENT USING SAME

• Main Authors: HAGA KENICHI, INABA KOICHIRO, MIYAJIMA SHINSUKE, TOYOTA KOJI, TOMIYASU SHIZUO, NAKA TOSHIO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 25.02.2016
• Subjects: APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMISTRY; COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM,CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THERARE-EARTH METALS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; TRANSPORTING

Disclosed is a method for producing an aluminum oxide thin-film. (1) A solution containing an alkyl aluminum compound or a partial hydrolysate thereof and a cyclic amide compound represented by general formula (4). (2) A method for coating the surface of a substrate with a composition containing the partial hydrolysate of an organic aluminum compound represented by general formula (6) while in an inert gas atmosphere, and heating the same. (3) A method for forming an aluminum oxide film by forming and heating a coated film obtained by spraying and coating an organic solvent solution of the organic aluminum compound represented by general formula (6) or the partial hydrolysate thereof. (4) A method for obtaining an aluminum oxide thin-film by heating a coated film formed by coating a substrate with a solution containing an alkyl aluminum compound and an organic solvent having electron-donating properties and not containing active hydrogen atoms. (5) A passivation film-forming agent comprising the solution, and a method for producing a silicon substrate having a passivation film using the same. A silicon substrate and a solar cell element having the passivation film. L'invention concerne un procédé de production d'un film mince d'oxyde d'aluminium. (1) L'invention concerne une solution contenant un composé alkyle aluminium ou son hydrolysat partiel et un composé amide cyclique représenté par la formule générale (4). (2) L'invention concerne un procédé de revêtement de la surface d'un substrat avec une composition contenant l'hydrolysat partiel d'un composé d'aluminium organique représenté par la formule générale (6) sous atmosphère de gaz inerte, et son chauffage. (3) L'invention concerne un procédé de formation d'un film d'oxyde d'aluminium par formation et chauffage d'un film de revêtement obtenu par pulvérisation et revêtement d'une solution en solvant organique du composé d'aluminium organique représenté par la formule générale (6) ou de son hydrolysat partiel. (4) L'invention concerne un procédé d'obtention d'un film mince d'oxyde d'aluminium par chauffage d'un film de revêtement formé par revêtement d'un substrat avec une solution contenant un composé alkyle aluminium et un solvant organique présentant des propriétés de donneur d'électrons et ne contenant pas d'atome d'hydrogène actif. (5) L'invention concerne un agent formant un film de passivation comprenant la solution, et un procédé de fabrication d'un substrat de silicium pourvu d'un film de passivation à l'aide de cet agent. L'invention concerne un substrat de silicium et élément de cellule solaire comprenant le film de passivation. 酸化アルミニウム薄膜の製造方法を開示する。 （１）アルキルアルミニウム化合物又はその部分加水分解物及び一般式（４）の環状アミド化合物を含有する溶液。 （２）一般式（６）で表される有機アルミニウム化合物の部分加水分解物含有組成物を、不活性ガス雰囲気下で基材表面に塗布し、加熱する方法。 （３）前記一般式（６）で示される有機アルミニウム化合物またはその部分加水分解物の有機溶媒溶液を噴霧塗布して塗布膜を形成し、加熱してアルミニウム酸化物膜を形成する方法。 （４）アルキルアルミニウム化合物及び電子供与性を有しかつ活性水素原子を含有しない有機溶媒を含有する溶液を基材に塗布して形成した塗膜を加熱して酸化アルミニウム薄膜を得る方法。 （５）前記溶液からなるパッシベーション膜形成剤、これを用いるパッシベーション膜を有するシリコン基材の製造方法。パッシベーション膜を有するシリコン基板及び太陽電池素子。