HYDROGEN RELEASE FILM

• Main Authors: KIRA, YOSHIKO, NANBU, TOMONORI, YUKAWA, HIROSHI, FUKUOKA, TAKAHIRO, ISHII, KYOKO, HATA, KENTA
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 23.12.2015
• Subjects: ALLOYS; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES ORLIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE; CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS ANDNON-FERROUS ALLOYS; CHEMISTRY; ELECTRICITY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; METALLURGY; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSIONOF CHEMICAL INTO ELECTRICAL ENERGY; SEPARATION; TRANSPORTING; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS

The present invention provides a hydrogen release film and hydrogen release laminate film that do not fail even when an electrochemical element is used for a long period of time or the amount of hydrogen release has increased due to a large quantity of hydrogen gas being generated within the electrochemical element. The hydrogen release film contains an alloy having Pd as a required metal, and the hydrogen storage quantity when measured at 50°C and a hydrogen partial pressure of 0.01 MPa is no greater than 0.4 (H/M). L'invention fournit un film de décharge d'hydrogène et un film stratifié de décharge d'hydrogène dans lesquels un gaz hydrogène est généré en grande quantité à l'intérieur d'un élément électrochimique, augmentant ainsi la quantité de décharge d'hydrogène, et qui ne présentent pas d'apparition de défauts y compris dans le cas d'une mise en œuvre sur le long terme de l'élément électrochimique. Le film de décharge d'hydrogène de l'invention contient un alliage avec Pd pour métal indispensable, et présente une quantité d'hydrogène stocké lors d'une mesure sous des conditions telles que la température est de 50°C et la température partielle d'hydrogène est de 0,01MPa, inférieure ou égale à 0,4 (H/M). 　本発明は、電気化学素子内で水素ガスが大量に発生して水素排出量が多くなったり、あるいは電気化学素子を長期間使用した場合でも不具合が生じない水素排出膜及び水素排出積層膜を提供する。本発明の水素排出膜は、Ｐｄを必須金属とする合金を含み、５０℃、水素分圧０．０１ＭＰａの条件で測定した時の水素吸蔵量が０．４（Ｈ／Ｍ）以下である。