CLEANING COMPOSITION

A hard surface cleaning composition comprising: a) from 1% to 60% by weight of the composition of a surfactant system; and b) from 0.1% to 10% by weight of the composition of a cleaning amine of formula: wherein R1 and R4 are independently selected from -H, linear, branched or cyclic alkyl or alkeny...

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Main Authors DELPLANCKE, PATRICK, FIRMIN AUGUST, EIDAMSHAUS, CHRISTIAN, CHEDID, ROLAND, BOU, HULSKOTTER, FRANK, MAAS, STEFFEN, LUDOLPH, BJOERN
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 05.11.2015
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Summary:A hard surface cleaning composition comprising: a) from 1% to 60% by weight of the composition of a surfactant system; and b) from 0.1% to 10% by weight of the composition of a cleaning amine of formula: wherein R1 and R4 are independently selected from -H, linear, branched or cyclic alkyl or alkenyl having from 1 to 10 carbon atoms; and R2 is a linear, branched or cyclic alkyl or alkenyl having from 3 to 10 carbon atoms, R3 is a linear or branched alkyl from 3 to 6 carbon atoms, R5 is H, methyl or ethyl and n=0-3. L'invention concerne une composition de nettoyage de surfaces dures, comprenant : a) de 1 % à 60 % en poids de la composition d'un système de tensioactifs ; et b) de 0,1 % à 10 % en poids de la composition d'une amine de nettoyage de formule : dans laquelle R1 et R4 sont indépendamment choisis parmi -H ou un groupe alkyle ou alcényle linéaire, ramifié ou cyclique ayant de 1 à 10 atomes de carbone ; R2 représente un groupe alkyle ou alcényle linéaire, ramifié ou cyclique ayant de 3 à 10 atomes de carbone ; R3 représente un groupe alkyle linéaire ou ramifié de 3 à 6 atomes de carbone ; R5 représente H, le groupe méthyle ou le groupe éthyle ; et n = 0 à 3.
Bibliography:Application Number: WO2015US28454